光刻机是谁发明的
法国人Nicephore niepce 。尽管光刻机发明的时间较早 ， 但并没有在各行业领域之中被使用 ， 直到第2次世界大战时 ， 该技术应用于印刷电路板 ， 所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别 ， 在塑料板上通过铜线路制作 ， 让电路板得以普及 ， 短期之内就成为了众多电子设备领域中关键材料之一 。
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机 ， 曝光系统 ， 光刻系统等 ， 是制造芯片的核心装备 。它采用类似照片冲印的技术 ， 把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上 。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种 ， 手动、半自动、全自动 。
A手动：指的是对准的调节方式 ， 是通过手调旋钮改变它的X轴 ， Y轴和thita角度来完成对准 ， 对准精度可想而知不高了；
B半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；
【光刻机是谁发明的】C自动：指的是从基板的上载下载 ， 曝光时长和循环都是通过程序控制 ， 自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要 。
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