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对半导体行业有一定了解的用户都知道光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠” ， 因此光刻机对半导体产业的发展至关重要 。
不过光刻机的研制不是一朝一夕可以完成的 ， 我国经过20多年的发展 ， 目前已知的最先进光刻机就是氟化氩光刻机 ， 这款光刻机分辨率为65nm ， 套刻工艺为8nm 。
按照套刻比1:3计算 ， 这款氟化氩光刻机可以生产28nm芯片 ， 因此这款光刻机算是28nm光刻机 。 和ASML的2nm光刻机、3nm光刻机相比 ， 我国最先进的光刻机还是有不小的差距 。
虽然我国在光刻机领域和ASML差距较大 ， 但在其他领域 ， 我国却取得了非常大的进步 。 据悉 ， 近日 ， 国产半导体巨头正式宣布交付7nm工艺产品 ， 对此 ， 外媒表示:反转再次出现 。
【完成7nm工艺交付，国产半导体巨头正式宣布，外媒: 反转再次出现】半导体行业是一个科技含量非常高的行业 ， 这里面设计的设备非常多 ， 其中就包括光刻机、等离子蚀刻机、离子注入机、单晶炉等 。 而有一款设备也非常重要 ， 那就是半导体检测设备 。
据悉 ， 半导体检测设备是芯片制造过程中检测芯片性能、与缺陷的设备 。 这个检测伴随着芯片生产过程中的每一个环节 ， 对芯片的质量、良品率起到关键的作用 。 正因为半导体检测设备的重要性 ， 很多半导体专业人士认为半导体检测设备的科技含量仅次于光刻机 。
此前 ， 半导体检测设备一直被国外的KLA等少数巨头所垄断 ， 我国的半导体检测设备厂商面对它们几乎毫无招架之力 。
随着芯片重要性的凸显 ， 我国半导体厂商开始注重半导体产业的研发投入 ， 这几年就包括28nm光刻机、麒麟9010、4nm蚀刻机等产品的突破 。 而在半导体检测设备领域 ， 我国的精微电子正式宣布了 。
近日 ， 精微电子在投资者互动平台表示:精微电子是国内半导体检测设备领域领军企业之一 ， 其麾下的部分主力产品已经完成7nm先进制程的交付和验收 ， 目前更先进制程的产品正在验证中 。
据悉 ， 精微电子是我国半导体巨头之一 ， 在半导体检测设备领域具有很大的话语权 。 目前 ， 精微电子已经向客户交付了14nm工艺产品 ， 这表明精微电子已经掌握了成熟的14nm工艺检测设备 。
精微电子的这次表态算是打破了KLA等厂商的垄断 ， 也加快了我国半导体检测设备的自主化 ， 这对于我国半导体产业的整体发展无疑是打上了一剂强心剂 。
写在最后
从华为自研自产了麒麟9000S芯片 ， 到中芯国际掌握7nm芯片技术 ， 再到国产28nm光刻机问世 ， 我国半导体技术是一次次实现反转 ， 这让以美方为首的“封锁联盟”非常无奈 。 现如今国产半导体检测设备突破了7nm水准 ， 实现了交付、验收 ， 这再次打了封锁联盟的脸 。 正因为如此 ， 有外媒才表示:反转再次出现了 。
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