国产光刻机,上海微电子装备的光刻机能达到什么水平

也总算知道华为为啥在长春建研究所了,这是想要近朱者赤,沾一沾长春光机所的研究技术啊!万一这近水楼台先得月,华为就和长春光机所合作了呢?那不就大大推进了芯片问题的解决?冲啊国产光刻机! 。
中国能做3纳米的光刻机吗?

国产光刻机,上海微电子装备的光刻机能达到什么水平


一、中国目前的技术在90nm,最先进的ASML也是5nm,3nm无人能造首先回答问题,那就是不能,目前中国量产的光刻机技术是90nm,90nm之后还有N个台阶,离3nm的差距,至少是10年起步 。中国目前光刻机技术最强的是上海微电子,生产的光刻机还在90nm阶段,处于光刻机技术的最后一档 。如上图所示,中国的SMEE处于低端,也就是90nm,而日本canno也处于这一档,而Nikon处于7-28nm 。
而技术最强的ASML目前的技术是5nm/7nm技术,也没有3nm技术,所以现在说3nm真的是太早太早了 。二、光刻机的核心技术是什么,为何这么难?那么光刻机的核心技术是什么,为何这么难?其实从元件来看,核心元件是镜头,因为光刻机的原理是放大的单反,用光把电路图刻画在硅片上,一次又一次,一层又一层的刻画 。
国产光刻机能实现多少nm工艺制程?
国产光刻机,上海微电子装备的光刻机能达到什么水平


【国产光刻机,上海微电子装备的光刻机能达到什么水平】

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