也总算知道华为为啥在长春建研究所了,这是想要近朱者赤,沾一沾长春光机所的研究技术啊!万一这近水楼台先得月,华为就和长春光机所合作了呢?那不就大大推进了芯片问题的解决?冲啊国产光刻机! 。
中国能做3纳米的光刻机吗？
一、中国目前的技术在90nm，最先进的ASML也是5nm，3nm无人能造首先回答问题，那就是不能，目前中国量产的光刻机技术是90nm，90nm之后还有N个台阶，离3nm的差距，至少是10年起步 。中国目前光刻机技术最强的是上海微电子，生产的光刻机还在90nm阶段，处于光刻机技术的最后一档 。如上图所示，中国的SMEE处于低端，也就是90nm，而日本canno也处于这一档，而Nikon处于7-28nm 。
而技术最强的ASML目前的技术是5nm/7nm技术，也没有3nm技术，所以现在说3nm真的是太早太早了 。二、光刻机的核心技术是什么，为何这么难？那么光刻机的核心技术是什么，为何这么难？其实从元件来看，核心元件是镜头，因为光刻机的原理是放大的单反，用光把电路图刻画在硅片上，一次又一次，一层又一层的刻画 。
国产光刻机能实现多少nm工艺制程？
【国产光刻机,上海微电子装备的光刻机能达到什么水平】
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