中国前人们早已讲出一个道理、“闻道有先后，术业有专攻” 。在国内，之前有位专业人士在网上发表过自己的看法，“芯片制造是整个IT行业的基础，OS的设计实践与芯片息息相关，如果一国之IT行业有高端芯片制造能力，必然在发展过程中有足够的机会形成底层软件的研发能力” 。该专业人士进一步指出，“所以对于一国之IT产业而言，如果芯片制造工艺不行，相当于发动机造不出来，技术自然备受限制，高超不到哪里去” 。
上文已经说到，华为几乎不可能投入大量的资源自主研发光刻机，而国内科研机构却可以，也应该对光刻机展开探索和研发，以便全方位地掌握光刻机的制造原理和核心技术 。光刻机的英文称谓为Mask Aligner 。从狭义上讲，光刻技术的大意是，厂商运用光化学等原理和一整套的方法，把掩模版上的设计图形“复制”到硅晶圆等基板上的工艺技术，该原理与照相有些相似，即硅晶圆片与光刻胶大体相当于是照相底片与感光涂层 。
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