请问，被称为芯片的“魄”，国产蚀刻机在世界上处于什么水平？
据媒体报道，2018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线 。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽 。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产 。▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品 。
中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与科林研发(Lam Research)、应用材料(Applied Materials)、东京威力科创(Tokyo Electron Limited）、日立全球先端科技 (Hitachi High-Technologies) 4家美日企业，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机 。
中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额 。中科院SP超分辨光刻机提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目 。该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备” 。
【金属标牌蚀刻方法,标牌蚀刻机】这是一种表面等离子体（surfaceplasma，SP）超分辨光刻装备 。▲中科院研制成功并通过验收的SP光刻机该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米 。结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片......中国的刻蚀机的确是达到了世界先进水平，光刻机还早，而且就算是这两样都世界先进了，不代表中国芯片业的前路就不艰辛了 。
目前中国的刻蚀机的确领先，5纳米等离子体刻蚀机已经通过台积电验证；但是光刻机就差多了，之前新闻报道中提到的“中科院SP超分辨光刻机”其实最多只能算是一个“原型机”，和ASML的光刻机不能相提并论，也不能用来制造芯片，还需要攻克一系列的技术难题退一步讲，就算是中国的光刻机与刻蚀机都达到世界领先就解决问题了么？ASML的EUV光刻机我们已经下单等待交货了，是不是到货以后中国就可以生产7nm甚至是5nm的芯片了不要把问题想简单了，以为芯片也只有光刻机和刻蚀机 。
推荐阅读
- 防火吊顶材料有哪些
- 金属后盖或玻璃后盖厚度仅7mm手机 玻璃后盖手机容易碎吗
- 为什么提款机的键盘要用金属,图片的键盘是什么相机
- 斥资百万元打造手机后盖 最后的金属机身手机
- 金属后盖的手机有哪些 "金属后盖手机"
- 地板砖上有金属划痕怎么去除
- 裸金属服务器,国外服务器...
- 怎样解决全金属壳手机信号问题
- 云服务器和裸金属服务器分别是什么？
- 木工钻头和金属钻头怎么区别