掩模版光刻机的工作是将掩模版上的电路图从光刻胶转移到显影，然后进行刻蚀，转移到硅片上 。现在生产高档芯片用的掩膜都很贵 。一个EUV面具的价格约为500万美元，是DUV面具的8倍 。随着EUV光刻技术的大规模生产，相应掩模的价格也在降低，但最低价格约为200万美元/片 。由于高档芯片内部结构复杂，多采用多层布线结构，每层需要2到4个掩膜版，所以一套芯片大概需要10个以上的掩膜版 。
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