用最直白的话来说，芯片制造工艺中的5nm和7nm其实指的是晶体管尺寸 。栅极的宽度越小，晶体管的尺寸就越小 。随着尺寸越来越小，需要解决的技术问题越来越多，厂商的研发难度也就越高 。晶体管越小，单个晶片就能容纳越多的晶体管 。在相同的晶片面积下，可以用更少的功耗容纳更复杂的电路系统，这意味着电路系统的集成度更高，并且可以实现更高的运行速度 。
芯片七纳米制程，是指晶体管之间的间距是七纳米，还是晶体管的尺寸是七纳米？
我来简单说说吧！1、纳米是尺寸还是间距：用最直白的话说，芯片制造工艺中的5nm、7nm其实指的就是晶体管尺寸 。一般专业术语称之为晶体管栅极的宽度（下图红框就是栅极），也就是所谓的栅长，栅长的宽度越小，也就意味着晶体管的尺寸越小 。2、晶体管小的好处：晶体管越小也就意味着在单个晶圆体上能塞入更多的晶体管，相同晶圆体面积的情况下，这样就可以以更小的功耗来容纳更复杂的电路系统，也就意味着了电路系统集成度更高，能实现更大的运行速率，
【芯片制程中的nm是哪里的间距,芯片七纳米制程】目前晶圆体尺寸最小能达到4寸，不过集成电路主流是使用8寸的晶圆体（见图） 。3、晶体管尺寸不能无限缩小：当然，在我们这个世界很多技术都会遇上物理极限，晶体管尺寸也一样，按照现有的技术，当晶体管达到20nm时就会产生量子物理问题，比如漏电等 。因此，随着尺寸的越来越小，要解决的技术问题也就越多，厂商的研发难度也就越高，
现在7纳米制造工艺已经接近物理极限，TSMC现在准备开发5纳米制造工艺 。要想成功，基本需要突破身体极限 。4.光刻机和蚀刻机的作用:为了实现纳米级晶体管的制作，这两个设备最后是缺一不可的 。前者的主要功能是在晶圆上涂光刻胶，进行光刻，包括编码等 。后者是在晶圆上刻蚀掉光刻机复制的电路，最后形成栅级，也就是上面提到的晶体管 。
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