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近日 ， 全球光刻机巨头佳能正式宣布 ， 自己已向美国德克萨斯州的半导体联盟——德克萨斯电子研究所 （TIE） ， 出货了一台最新的纳米压印光刻 （NIL） 系统FPA-1200NZ2C ， 引发全球关注 。
为何这台FPA-1200NZ2C会引发大家的关注呢？原因在于它是佳能去年发布的 ， 一台可用于5nm芯片工艺的设备 ， 使用它 ， 可以不用EUV光刻机 ， 即可制造5nm芯片 。
要知道 ， 在它诞生之前 ， 所有5nm的芯片 ， 都必然使用EUV光刻机 ， 但全球又只有ASML一家能生产EUV光刻机 。
而佳能的NIL设备诞生后 ， 给大家展示了另外一条制造5nm芯片的路 ， 那就是纳米压印 ， 这完全是换道超车了 ， 自然引发大家关注 。
事实上 ， 对比EUV光刻机 ， 这种纳米压印机 ， 也是有很多优势的 ， 比如其售价只有EUV光刻机的十分之一左右 ， 全套纳米压印生产线 ， 相比于EUV光刻生产线 ， 成本低了40-50% 。
当然 ， 纳米压印也有缺点 ， 那就是一套NIL生产线的产量 ， 和EUV相比 ， 低很多 ， 在超大规模的芯片制造中 ， 还是有很大的提升空间 ， 不如EUV效率高 。
另外就是 ， 使用纳米压印技术时 ， 全套生产设备 ， 都不能与EUV光刻设备配套 ， 生产线的设备 ， 全部要重新更换 ， 这对于一些拥有EUV生产线的芯片厂而言 ， 很难接受 ， 毕竟抛弃掉一种 ， 全部替代 ， 不太可能 。
但很明显 ， 这样的NIL ， 对中国芯片厂而言 ， 就有巨大的诱惑了 。
一方面是成本低 ， 二是EUV之外的第二条路 ， 毕竟ASML的EUV光刻机我们买不到啊 。
另外缺点方面 ， 也不是大缺点 ， 我们不需要超大的5nm芯片生产产能 ， 同时我们也没有EUV光刻生产线 ， 反正都是从0开始建 ， 直接建立NIL生产线 ， 成本又低一些 ， 何乐而不为呢？
其实 ， 之前佳能就有想法 ， 这样的设备生产出来后 ， 可以卖给中国的 。
但后来美国针对中国半导体产业 ， 实施了各种禁令 ， 日本、荷兰也跟进 ， 导致佳能的这种设备 ， 就无法出货给中国了 ， 这真的是遗憾 。
【佳能的遗憾：5nm NIL设备，最适合卖给中国，可惜不能卖】因为除了中国之外 ， 佳能找不到更合适的 ， 大量需要NIL设备的国家或地区了 ， 毕竟另外能够制造5nm芯片的intel、台积电、三星都有大量的EUV生产线 ， 切换成NIL生产线 ， 几乎不可能 。
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