国产半导体关键领域迎来重大突破，背后公司成立不到5个月
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【国产半导体关键领域迎来重大突破，背后公司成立不到5个月】近日 ， 我国在半导体专用光刻胶领域实现重大突破 ， 成功打破国外技术垄断局面 。
一直以来 ， 我国光刻胶的国产化率仍然较低 ， 特别是在高端的半导体光刻胶如KrF和ArF光刻胶和面板光刻胶领域 ， 国产化率不足50% ， 而EUV光刻胶几乎全部依赖进口 。
近年来 ， 随着本土厂商加速国产化进程 ， 国产光刻胶领域陆续实现新的突破 ， 这将有望带动我国半导体相关产业链的成长 ， 对于半导体国产化替代有着重大意义 。
配方全自主设计
对标国际主流产品
10月15日 ， 据武汉东湖新技术开发区管理委员会（中国光谷）发文称 ， 武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶产品 ， 已通过半导体工艺量产验证 ， 实现配方全自主设计 ， 有望开创国内半导体光刻制造新局面 。
武汉东湖新技术开发区官宣：国产光刻胶通过量产验证
据介绍 ， 该产品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列 。 相较于国外同系列被称为“妖胶”的产品UV1610 ， T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm ， 且工艺宽容度更大 ， 稳定性更高 ， 坚膜后烘留膜率优秀 ， 其对后道刻蚀工艺表现更为友好 ， 通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀 ， 下层介质的侧壁垂直度表现优异 。
T150 A产品展示
据公开资料显示 ， 太紫微公司成立于2024年5月31日 ， 由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立 。 团队立足于关键光刻胶底层技术研发 ， 在电子化学品领域深耕二十余载 。
太紫微企业负责人、华中科技大学武汉光电国家研究中心教授朱明强表示：“以原材料的开发为起点 ， 最终获得具有自主知识产权的配方技术 ， 这只是个开始 ， 我们团队还会发展一系列应用于不同场景下的KrF与ArF光刻胶 ， 为国内相关产业带来更多惊喜 。 ”
“无论是从国内半导体产业崛起的背景来看 ， 还是从摩尔定律演变的规律展望未来 ， ‘百家争鸣’的局面已形成 ， 光刻领域还会有很多新技术、新企业破茧成蝶 ， 但拥有科技创新的力量是存活下去的必要前提 。 ”太紫微外聘专家顾问表示 。
光刻工艺最重要耗材
市场长期被外企垄断
光刻胶是光刻工艺最重要的耗材 ， 其性能决定了加工成品的精密程度和良品率 ， 而光刻工艺又是芯片制造过程中的关键流程 ， 因此光刻胶在整个电子元器件加工产业 ， 都有着至关重要的地位 。
光刻胶又称光致抗蚀剂 ， 是一种对光敏感的混合液体 。 其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂 。
光刻胶可以通过光化学反应 ， 经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上 。
光刻胶作用原理示意图
作为芯片制造过程中的关键材料 ， 光刻胶对半导体器件的精确制造具有决定性的影响 。 光刻工艺包括涂胶、曝光和显影三个基本步骤 ， 这一过程中 ， 光刻胶作为图形转移的介质 ， 通过光化学反应 ， 将所需的微细图形从掩模版转移到待加工基片上 ， 实现选择性刻蚀 。
按照曝光波长不同 ， 半导体光刻胶可分为紫外宽谱（300-450nm）、g 线（436nm）、i 线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、EUV（<13.5nm）等 6 个主要品类 。
光刻胶分类（资料来源：公开资料、果壳硬科技整理）
光刻胶是一种高度精密且经过精心设计的配方产品 ， 融合了树脂、光引发剂、单体及多种添加剂等具有不同特性的原材料 ， 并通过一系列复杂的生产工艺制造而成 。 为确保产品的卓越品质与稳定性 ， 制造商必须掌握性能评估技术、严谨的生产管理体系、洁净室生产技术以及微量分析等关键技术 。
此外 ， 光刻胶的生产过程需要大量的研发投资和技术积累 ， 其成本相对较高 。 鉴于光刻胶市场规模相对较小 ， 行业集中度极高 ， 仅有少数几家企业能够在该领域立足并持续发展 。
时至今日 ， 光刻胶领域仍然被日本企业垄断 ， 核心技术被严格掌握在日韩及欧美企业手中 。 目前全球范围内 ， 主要的光刻胶生产商包括日本的JSR、东京应化、信越化学、富士电子 ， 美国的陶氏化学 ， 以及韩国的东进世美肯等 。
全球光刻胶厂商市场份额
西部证券指出 ， 我国半导体光刻胶市场超90%主要依赖进口 ， 其中KrF、ArF光刻胶对外依赖最为严重 ， 国产化率均仅在1%水平 。
国产光刻胶发展现状如何
根据公开数据显示 ， 2023年全球半导体光刻胶（包括EUV光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶、i/g-Line光刻胶）市场规模为24.91亿美元 ， 预计2024年全球光刻胶市场规模为50亿美元 。 与此同时 ， 中国光刻胶市场也在不断增长 ， 2022年中国光刻胶市场规模约为98.6亿元 ， 2023年增长至约109.2亿元 ， 预计2024年将达到114.4亿元? 。
尽管光刻胶市场规模并不是很大 ， 但其重要性却不容小觑 。
相对来说 ， 国内光刻胶领域厂商起步较晚 ， 但目前正处于国产化的快速发展阶段 ， 国内多家厂商已逐步开始布局KrF光刻胶布局 。 实现光刻胶的国产替代也是中国大陆半导体产业摆脱“卡脖子”的关键 。
目前 ， 彤程新材、华懋科技、晶瑞电材、上海新阳等国内企业已经开始布局G/I线、KrF和ArF光刻胶的研发和生产 。
国产光刻胶厂商汇总（来源：电巢整理）
10月18日 ， 晶瑞电材在互动平台表示 ， 公司子公司瑞红苏州拥有紫外宽谱系列光刻胶、g线系列光刻胶、i线系列光刻胶等近百种型号半导体光刻胶量产供应市场 ， 在高端光刻胶方面 ， 已有多款KrF光刻胶量产 ， ArF光刻胶多款产品已向客户送样 。
晶瑞电材光刻胶产品介绍（来源：公司官网）
对于此次太紫微公司的最新突破 ， 有业内人士分析称 ， 国产对标国外厂商UV1610产品的光刻胶量产确实是个好消息 。 不过 ， 在KrF系列光刻胶产品中 ， T150 A对标的UV1610产品算是“很常用的胶” ， 门槛不算高 ， 但由于常用所以需求量会比较大 。
从市场竞争情况来看 ， “UV1610这一款产品 ， 实际留给其他厂商的市场空间并不多 。 ”据上述人士称 ， 目前北京科华直接代理了UV1610的原厂 ， 主要为原厂提供代工 ， 其他厂商“玩不了” 。 而徐州博康主打配方和生产“全国产” ， 有能力做UV1610 ， 不过目前重心更多放在BARC（底部抗反射涂层）产品上 。
其进一步指出 ， 太紫微光宣称其产品已经成功通过了半导体工艺的量产验证阶段 ， 且所有配方均为自主研发设计 。 然而 ， 产品的最终成效还需依赖于市场与客户的实际反馈来评判 。 据相关介绍 ， 光刻胶产品在客户端的验证流程一般需要耗时2年 。
相信在国内企业和科研人员努力之下 ， 我国国产光刻胶国产化率将加速提升 ， 逐步突破技术壁垒 ， 最终彻底摆脱外企垄断局面 。
资料来源：
https://www.wehdz.gov.cn/2022/ggxw_68627/cydt_68630/202410/t20241015_2469022.shtml
http://www.jingrui-chem.com.cn/gkj.html
https://baijiahao.baidu.com/s?id=1807951903466264724&wfr=spider&for=pc
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