euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近，复制掩模板上的图案；直写式光刻是将光束聚焦为一点，通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工 。投影式光刻因其高效率、无损伤的优点，是集成电路主流光刻技术 。
光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备 。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样 。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造 。
【euv光刻机原理】
