刻蚀机和光刻机的区别主要在：
【刻蚀机和光刻机的区别 刻蚀机和光刻机的区别是什么】1、工艺不同：刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉，光刻机是将图形刻到硅片上；
2、难度不同：光刻机的难度和精度大于刻蚀机 。
推荐阅读
- 70台光刻机，455亿枚芯片！荷兰官宣后，外媒：尘埃要落定了
- 宣统皇帝和光绪什么关系
- 光刻机成为“废铁”？ASML正式官宣，外媒：事情闹大了
- ASML 荷兰光刻机制造商阿斯曼总裁表示，华为制造的光刻机产业链对全球光刻机产
- 荷兰撤走在中国的芯片专家，并且终止了光刻机的维修服务！这个时间就不去提什么合同契
- qq空间手机标识语伤感
- 光刻机是什么 光刻机是什么东西
- 光刻机是干什么用的 光刻机是谁发明的
- 中微子和光子区别
- 雕刻机怎么设置雕刻深度