光刻机为什么中国做不出来知乎光刻机为什么中国做不出来 _中国光刻机

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中国光刻机在光刻机领域，荷兰ASML和日本的佳能，尼康把握了全球9成以上的光刻机市场。似乎没有第四家光刻机厂商，能够参与中高端光刻机的竞争。因为不具备生产中高端光刻机的实力。

其中ASML更是唯一能生产EUV光刻机的厂商，就因为能生产EUV光刻机，所以ASML受到全球芯片制造厂商的追捧，都希望能采购一台EUV光刻机。尽管需要花费1.2亿美元才能购买一台EUV光刻机，但依旧是供不应求。
我国芯片代工厂曾经也买了一台EUV光刻机，只不过在某些国家的阻碍下，迟迟没有交付。

实际上中国光刻机也有自己的生产厂商，比如上海微电子就是国内实力领先的光刻机设备厂商。掌握28nm光刻机制造工艺，还有华卓精科提供光刻机双工件台，助力国产光刻机发展。
可能很多人不知道的是，65年前中国就有光刻机。在60年代，中国第一台65型接触式光刻机亮相，可能技术放在现在来看，不是最领先的。但能够在当时生产出光刻机，已经是走在世界各国前沿了。

到了80年代，中国研发的光刻机技术甚至领先世界。如果按照这种趋势，我们应该还是世界领先的，可为何如今不行了？
为何不行了？光刻机制程也是分为很多种的，从低到高包括了180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm等工艺。根据光刻机种类的不同，应用领域也是不一样的。
比如ASML生产的EUV光刻机可专门用来生产5nm手机芯片处理器，佳能的高功能光刻机是面向小型基板生产的。能够做到28nm及以下的，全世界都没有几家。到了7nm以下，就只有ASML能生产。

实际上我国主流的光刻机水准是在90nm，上海微电子传来的28nm浸润式光刻机，还在发货阶段，距离投入实际生产使用，还没有太大的进展。
至少可以确定的是，和国外的ASML相比，我们还有很大的进步空间。那么问题在于，为什么80年代是领先的，到后来却不行了？

原因在于研发投入大，人才储备不足，没有好的生产制造环境。再加上当时国外技术大量引起国内，所以为了方便，直接购买国外设备成为主要思想。
在当时的时代背景下，有条件研发光刻机的企业机构非常少，人才的稀有的原因都是造成发展迟缓的原因。