6台光刻机抵达，7nm芯片提上日程？外媒：围堵计划落空了 _云知道

【6台光刻机抵达，7nm芯片提上日程？外媒：围堵计划落空了】本文原创，请勿抄袭和搬运，违者必究
中国，美国等国家地区都在加紧芯片制造业布局，这就需要更多的光刻机设备了。光刻机是制造芯片的必需品，而荷兰ASML公司又是唯一能制造EUV光刻机的厂商。
只是受规则限制，ASML无法提供最先进的EUV光刻机，只能将DUV光刻机运抵中国。据悉，有中企的6台光刻机抵达，难道7nm芯片提上日程？外媒：围堵计划落空了。

ASML光刻机陆续出货ASML的光刻机在中国是十分受欢迎的，一方面ASML光刻机具有高精度、高效率和高可靠性的特点，能够满足中国集成电路制造厂商对于芯片制造的要求。
另一方面ASML与中国的集成电路制造厂商建立了紧密的合作关系，为中国客户提供全面的技术支持和服务。为了能在中国市场做生意，ASML不断努力，极力劝说美国不要阻止出货，否则会导致全球供应链中断，直言中国是供应链的重要参与者。

当荷兰与美国达成协议，对高端DUV光刻机也进行限制时，ASML争取到了2023年剩余时间的出货机会。正因如此， ASML第三季度来自中国大陆的营收迅速增长，大陆营收占比已达46%，而这个数字在第一季度只有8% 。
这样的营收占比增长速度非常快，更让ASML明白了中国市场的重要性。ASML进入中国市场几十年，累计出货了1400台光刻机，而中企积塔半导体的6台光刻机也抵达了。

ASML数月前参与中企项目招标，并成功获得了数台光刻机订单，如今ASML光刻机陆续出货，尽全力保障中国客户的需求得到满足。
外媒：围堵计划落空了在ASML可出货的范围内，数款高端DUV光刻机理论上可以实现7nm芯片量产，只需运用多重曝光技术。传统的光刻技术是通过一次曝光将芯片图案投影到光刻胶层上，然后进行显影和刻蚀来形成芯片的图案。

但芯片制造工艺的不断进步，传统的单次曝光技术已经无法满足需求。多重曝光技术通过多次曝光和对位来实现更高分辨率和更复杂的芯片图案，当初台积电就曾用DUV光刻机，利用多重曝光实现7nm的量产。
既然这些光刻机能继续出货，是不是意味着7nm芯片提上日程了。这就需要看厂商们的实际行动了，理论和实际能否满足市场的期待，还需要拭目以待。
外媒：围堵计划落空了，ASML不断进行技术创新，不断推出新产品和解决方案，使其保持领先地位的同时，也将光刻机交到客户手中，实现双赢。美国不断劝说荷兰，一开始荷兰不愿与美国站在一起，表示不会照搬美国的政策。