1、光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等 。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.
【芯片为什么要用光刻机】2、因为芯片远比这小得多,动不动就是nm的,这些最小也就是μm级别,那么到底是什么刻刀能做到这么精细 。所以就想到了,用光线在芯片上刻,就是光刻机 。
3、Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程 。形象的来说光刻机就是个“投影仪”,把我们想要的图案投影到芯片上 。
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