中科院传光刻机突破中国光刻机的新突破 _中科院传光刻机突破

中国光刻机的新突破（中科院传光刻机突破）
芯片领域的发展一直是全球关注的重点，光刻机作为芯片制造的基础，一直是我国难以跨越的鸿沟，尤其是在高端光刻机方面，不过功夫不负有心人，我国在光刻机领域终有所进展。

EUV光源、双工件台接连突破【中科院传光刻机突破中国光刻机的新突破】上海微电子作为我国光刻机行业的领军企业，近些年的表现也是相当不错的，到目前为止，上海微电子已经掌握了90nm光刻机的制造能力，并且在28nm方面也有所成长，预计到2021年年末的时候会与大家见面
而光刻机最核心的三项技术分别是EUV光源、双工件台和光学镜头，这三项的难度可以说是不分上下，其技术方面我国经常受到西方国家的封锁。
最近中科院传来好消息，预示着我国在光刻机领域又有了新的突破，在生产光刻机技术方面，清华大学和联邦技术学院达成合作协议，共同提出了一种新型粒子加速器，并对其进行了验证，其结果显示通过ssmb的工作原理，可以为光刻机覆盖所需的EUV光源技术。

不仅如此，如今在双工件台技术方面也有所成就，华卓精科作为我国在该领域的杰出代表企业，目前与清华大学的专业团队进行合作，共同研制出的双工件台，其技术水准完全可以与阿斯麦相提并论，实力不相上下，据了解，上海微电子制造的28nm光刻机，其中利用的就是华卓精科的双工件台。
该双工件台的精度可以达到1.7nm，主要被应用在65nm以下的芯片制程，它的出现预示着我国在该领域技术的进步、打破西方国家的封锁，实现自主化生产。
我国光学镜头有待成长

如果想要在光刻机方面实现全面发展，对阿斯麦的霸主地位有所挑战，目前还有光学镜头技术有待进步，我国在该领域有着突出表现的就是舜宇光学公司。
据了解在去年世界镜头市场中，舜宇光学在其中的占比就达到了26%，在安卓手机镜头市场中，其占比更是达到了33%，甚至以5617万个销量，稳居世界第一的位置。
为了能够促进光学镜头的发展，舜宇光学不惜投入大量的资金来攻克技术上的难题，从2008年投入了0.56亿，去年的投资数额竟达到了25亿元，如今在该领域已经占有一席之地，并且获得了2000多项授权专利。

但让人比较遗憾的是目前无法生产出光刻机镜头，这主要是因为光刻机镜头的难度实在较大，按照舜宇光学目前的发展水平，还能难达到该技术水平，光刻机镜头要求其镜面的光洁度不能超过50皮米，也就相当于要求四川地区的高度不能超过5厘米。
在光学镜头生产制造方面，德国卡尔蔡司处于绝对王者之位，是目前世界上唯一一个为阿斯麦提供光学镜头的企业，其发展历史有170多年。
即使是经验丰富实力超强的蔡司，也不能完全保证其生产的产品可以达到标准，目前在公司内可以达到该水准的技术师只有20人。
结语虽然目前我国还未能实现光刻机镜头的生产，但是相信凭借舜宇光学的实力，以及按照它目前的发展速度，今后我国一定会在该领域有所突破，打破外企的技术壁垒。