11月29日 ， 中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收 。 消息传着传着 ， 就成了谣言——《国产光刻机伟大突破 ， 国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁 ， 弯道超车》《厉害了我的国 ， 新式光刻机将打破“芯片荒”》……
笔者正好去中科院光电所旁听此次验收会 ， 写了报道 ， 还算熟悉 ， 无法苟同一些漫无边际的瞎扯 。
中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU 。 它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率 ， 用于一些特殊制造场景 ， 很经济 。
先解释下：光刻机不光是制造芯片用 。 一张平面（不论硅片还是什么材料）想刻出繁复的图案 ， 都可以用光刻——就像照相 ， 图像投在感光底片上 ， 蚀掉一部分 。 半个多世纪前 ， 美国人用这个原理“印刷”电路 ， 从而有了大规模集成电路——芯片 。
为了节能和省硅料 ， 芯片越做越小 ， 逼得光刻机越做越极端 。 线条细到一定程度 ， 投影就模糊了 。 要清晰投影 ， 线条粗细不能低于光波长的一半 。 顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源 ， 好刻10纳米以下的线条 。
但稳定的、大功率的极紫外光源很难造 ， 一个得3000万元人民币 。 要求工作环境严苛 ， 配合的光学和机械部件又极端精密 ， 所以荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机 ， 创造了“一台卖一亿美金”的神话 。
十几年前 ， 国际上开始对表面等离子体（surface plasma ， SP）光刻法感兴趣 。 中科院光电所从2003年开始研究 ， 是较早出成果的一个团队 。 所谓SP ， 光电所的科学家杨勇向笔者解释：拿一块金属片和非金属片亲密接触 ， 界面上有一些乱蹦的电子；光投影在金属上 ， 这些电子就有序地震荡 ， 产生波长几十纳米的电磁波 ， 可用来光刻 。
但这种电磁波很弱 ， 所以光刻胶得凑近了 ， 才能刻出来 。 且加工精度与ASML的光刻机没法比 。 刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的 ， 至少以现在的技术不能 。
验收会上也有采访人员问：该光刻设备能不能刻芯片 ， 打破国外垄断？光电所专家回答说 ， 用于芯片需要攻克一系列技术难题 ， 距离还很遥远 。
总之 ， 中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事 ， 说前者弯道超车 ， 就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特 。
各家媒体第一时间报出的信息 ， 就我看到的还算中规中矩 。 但后来网媒添枝加叶 ， 搞到离谱 。 有些传播者为吸引眼球、赚钱 ， 最爱制造“自嗨文”和“吓尿体” 。 听到国产科技成就先往大里吹 ， 驴吹成马 ， 马吹成骆驼 ， 好卖个骆驼价 。
【国产光刻机，治不了咱们的“芯”病！】这种“科技报道”是满足虚荣心的伪新闻 。 行家听了眉头一紧 ， 避之大吉 。 也难怪许多科学家怕上新闻 。
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