能不能用X射线做光刻机？
【光刻机是干什么用的,也造不出光刻机】
能不能用X射线做光刻机 ， 答案是肯定可以的 ， 比如比较目前晶圆行业主流的极紫外光刻（Extreme Ultraviolet Lithography）实质上就是软X射线光刻技术 ， 首先解释一下什么是软X射线 。X射线也就是我们常说的伦琴射线 ， 它是波长介于紫外线与γ射线 之间的一种电磁辐射波 ， 通常波长约在0.01~100A之间 ， 而波长在10～100A之间的称为软X射线 。
传统的基于光学系统的成像式光刻机在工艺上关键线宽上受到系统的解像力（也就是系统的成像分辨率）限制 ， 已经成为了集成电路诸如晶圆行业设计上的一大难题 。之前比较常见的32以及45nm工艺由于光源波长的限制 ， 必须采用浸润式系统进行 ， 比如193nm液体浸润式系统 。因此在晶圆不断集成化极致化的背景下衍生了具有更高分辨率的EUV光刻机 。
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