尴尬了！荷兰光刻机管制刚升级，不到一周，我国光刻机就取得突破_阿斯麦尔|芯片

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今年刚刚开始时，美国和荷兰就开始对中国芯片行业的管制不断升级，尤其是在荷兰9月6日宣布的对光刻机出口再次收紧。
而且他们这次的管制更是将DUV型号都已经列入到了管控范围内，这种行为就差把“禁购”这两个字说出来了。

可是让他们想不到的是，管制刚宣布一周不到的时间，中国就传来了振奋人心的消息，国产自研光刻机取得了重大突破！
美国限制中国芯片进口
光刻机这个词在国际社会上一直都有着很高的热地，大家都知道光刻机是芯片领域的核心步骤，没有光刻机，就等于做不出来高精尖的芯片。

在国际上ASML这家荷兰公司，可以说是全球光刻机企业的巨头了，毕竟全球最先进的光刻机都被他们垄断了。
据了解可以确定的是，目前除了ASML没有任何一家企业可以制作出EUV光刻机（极紫光刻机），且7纳米以下的高端芯片，没有他们的光刻机根本就造不出来。

但是为什么荷兰要屡次对光刻机进行管制呢？
其实这最主要的原因还是美国，美国眼看着中国芯片产业发展迅速，彻底坐不住了，总是以“国家安全”为由，要求荷兰将EUV光刻机加入到对华出口管制的清单中。

但其实ASML也做出过反驳， ASML的前CEO就曾公开反对过美国的做法，但是他的力量只是微妙的，最终荷兰政府还是迫于美国的压力，荷兰政府最终还是做出了妥协。

据彭博社爆料，继EUV光刻机的管制之后，他们并不满足，还在暗地里对荷兰施压，要求ASML停止对中国已购买光刻机的维护，这个行为的目的很明显，就是想遏制住中国在芯片领域的发展。

信息来源：外媒曝：美下周将施压荷兰，要求阿斯麦在华停止对一些工具设备提供维护服务，中国驻美使馆回应——环球网

这一次，荷兰政府依旧没有抗住压力，再一次对中国宣布了对中国出口光刻机管制，表示不会再对中国已购买光刻机的维护，同时DUV光刻机也被加入到了管制清单中，且任何光刻机出口都需要申请许可证，荷兰的举动无疑就是要“赶尽杀绝” 。
荷兰这一波操作下来， ASML的股票应声下跌7% ，市值蒸发了272亿美元，这可是真金白银的损失，但是得罪了美国，日子同样不好过， ASML心里苦啊，又能怎么办呢？

中国企业面对技术封锁，其实早就开始未雨绸缪，一方面，加大在28纳米、14纳米等成熟工艺上的研发力度，争取在中低端芯片领域实现自给自足。
另一方面，积极探索光刻机的替代技术，比如纳米压印技术，虽然目前还不能完全替代光刻机，但至少提供了一种新的可能性。

阿斯麦在中国市场占了他们出口总额的将近一半，这要是没了中国市场，他们得损失多少，可想而知，同时英特尔、高通、英伟达这些美国芯片巨头，哪个在中国市场没赚得盆满钵满的？
所以说，美国这招“杀敌一千自损八百”的招数，虽然在嘴上是“盟友至上” ，但实际上都是在坑盟友。

信息来源：环球时报——荷兰进一步扩大光刻机管制范围，中方不满：荷方应尊重市场原则和契约精神

要知道没有任何企业会跟钱过不去，一边是美国政府的禁令，一边是中国市场的诱惑，这些企业只能在夹缝中求生存，一边想方设法绕过禁令，一边又在中国市场疯狂捞金。
他们打着“芯片联盟”的旗号，实际上干的还是“美国优先”的勾当，他们想利用自己在半导体产业链上的优势，把其他国家都踢出局，然后自己坐上“头把交椅” 。

但是他们可能打错了算盘， ASML这个看似“纯血”的荷兰企业，背后其实也是美国资本在操控。
他们的技术、设备，很多都依赖美国供应商，说到底ASML也不过是美国控制全球半导体产业链的一枚棋子罢了。

他们嘴上不说，心里可是跟明镜似的，今天美国能为了打压中国而牺牲他们的利益，明天就能为了其他目的而抛弃他们。
国产光刻机新突破
国产光刻机听着就让人振奋，这么久以来我国在光刻机领域都是被“卡脖子” ，如今我们终于有了新的突破，这代表着中国光刻机将会彻底打破西方国家的“遏制” 。

华卓精科，这家名不见经传的企业，因为一项名为“双工作台”的技术，被推上了风口浪尖，成为国产光刻机突破之路上一个绕不开的名字。
2013年华卓精科开始了一项看似不可能完成的任务：挑战光刻机领域绝对霸主ASML的权威，研发高精度的双工作台系统。

荷兰ASML可是垄断全球光刻机市场的巨头，仅仅一台极紫光刻机售价就高达1亿欧元，同样是生产7纳米、5纳米先进制程芯片的关键。
正是面对这样的困境，华卓精科并没有放弃，反而更有劲头，下定决心一定要突破，打破被“卡脖子”的现状。

华卓精科经过几年的艰苦攻关，最终在超精密多方位的核心技术上取得了一系列的突破，且在2016年有清华大学朱煜教授带头下， “双工作台”通过验收，从此中国也因此成为了全球第二个掌握双工作台的核心技术国家。

消息一出，整个光刻机行业都发生了震动，要知道双工作台技术是光刻机实现高精度、高效率的关键所在，也是ASML长期能够垄断全球光刻机的核心技术之一。

而华卓精科的突破，不仅意味着中国企业在光刻机核心技术上有了新的突破，更是代表着国产光刻机的自主研发，将有机会现世。
华卓精科的官网上，赫然写着“国内首家可自主研发并进行一体化销售的光刻机双工作台供应商” ，其产品展示页更是明确指出该技术“满足纳米级精度尺度”的产品定制需求，适用于OLED无掩模激光光刻、激光直写光刻、光刻机等高端制造行业。

一时间， “光刻机概念第一股”、“光刻机第一股”等称号纷至沓来，华卓精科也被寄予厚望，希望其能够扛起国产光刻机的大旗。
但是现实远比想象中骨感，在2021年，科创版上市委第51次审议会议上，华卓精科被当庭决定“暂缓审议” ，原因是对其双工作台产业化前景的质疑。

质疑并非空穴来风，尽管华卓精科在双工作台技术上取得了突破，但距离制造出一台完整的、可量产的光刻机还有很长的路要走。
光刻机这条道路上，可不只是需要双工作台技术，同时还需要光源、镜头、掩模等一系列关键技术的突破。

更重要的是，即使华卓精科能够解决所有技术难题，如何实现产业化也是一个巨大的挑战，光刻机市场是一个高度垄断的市场， ASML凭借其多年的技术积累和市场优势，牢牢占据着市场主导地位。
华卓精科要想在这样的市场环境下突围，需要面对巨大的市场竞争压力和资金投入压力。

而这一切，仅仅是中国光刻机产业发展的一个缩影，工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》中，出现了两台国产光刻机的身影：氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。

其中氟化氩光刻机采用的DUV技术与荷兰ASML目前主推的DUV光刻机型号相同，套刻精度小于等于8纳米，意味着可以用于量产28纳米制程的芯片。

信息来源：上游新闻——工信部公开推广两款国产DUV光刻机！最小套刻≤8nm

这无疑是一个令人振奋的消息，但是也要注意到，我们在进步， ASML也在进步，如果想要彻底解决被卡脖子，我们还有着很长的路要走。

结语
【尴尬了！荷兰光刻机管制刚升级，不到一周，我国光刻机就取得突破】光刻机的这条道路上在未来注定充满挑战，但我们有理由相信，随着国家政策的大力支持，以及一代代科研工作者的不懈努力，中国光刻机产业终将打破垄断，实现从“跟跑”到“并跑”再到“领跑”的华丽转身。