美国的七寸被击中了，中国使出关键一招，美媒彻底慌了，西方开始害怕了
文章图片
文章图片
文章图片
几天前工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》 ， 其中氟化氩光刻机收到了广泛关注 ， 因为这是国产光刻机历史上的首台DUV光刻机 ， 这意味着我国在芯片制造设备的发展上迈入了新的阶段 ， 虽然这台光刻机的分辨率≤65nm ， 这意味着它能够生产制造的将是65nm芯片 ， 如果经过多重曝光 ， 最高精度可能达到55nm级别 ， 虽然相较于主流的10nm、7nm、5nm精度来说还有很大差距 ， 但是 ， 当我们的光刻机技术进入到DUV阶段 ， 接下来将进入快速迭代期 。
这并不是无的放矢 ， 回顾一下全球顶尖EUV光刻机制造厂商ASML公司光刻机的发展历史可以发现 ， ASML公司的第一台DUV光刻机是在2010年研发出来的 ， 当时无论是分辨率还是套刻精度都很一般 ， 可是 ， 这就像一块敲门砖 ， 从这第一台DUV光刻机问世以后 ， ASML的DUV光刻机进入到了爆发的快车道 ， 在2016年研发的NXE:3400B/3400C ， 已经可以实现7nm甚至是5nm芯片的生产制造 。
所以说 ， 按照ASML公司的研发经验来看 ， 我们在未来五年内 ， 国产光刻机肯定是可以有一个快速迭代的 ， 当然 ， 最为核心的难题目前是 ， 当下我国突破的依旧是干式光刻机 ， 而ASML公司已经用事实证明 ， 浸润式光刻机无疑是光刻机技术发展的主流 。
所以 ， 想要快速破局 ， 我们将目标投入到浸润式光刻机的研发同样非常重要 。
而对于我国DUV光刻机的突破 ， 美国方面无疑是被击中了七寸 ， 所以最近几天里 ， 美国媒体方面也对我国的国产DUV光刻机进行了评论 ， 不过他们认为我国研发的DUV光刻机 ， 大概水平在ASML10年前的水准 ， 因为在2015年的时候 ， ASML公司研发了一款TWINSCAN XT:1460K光刻机 ， 其分辨率就≤65nm ， 套刻≤5nm 。
不可否认 ， 从事实上看的确如此 ， 但是 ， 回顾一下2020年的时候 ， 西方媒体对我国研发光刻机的评论 ， 就可以发现 ， 他们认为给我们图纸我们都研发不出来光刻机 ， 但是 ， 现在话风已经开始转变了 ， 现在变成了 ， 我们的光刻机落后ASML的10年 。
那么 ， 下一次呢？下一次的评论会不会变成 ， 中国光刻机落后ASML公司5年 ， 再下一次是不是就追上了ASML呢？所以说 ， 本质上这一次中国在光刻机上使出了关键一招 ， 同时也意味着该来的终于来了 ， 因为我们已经交出了答卷 ， 这一招让美国媒体已经乱了分寸 ， 让他们变得很酸 ， 甚至欧美已经开始瑟瑟发抖了 ， 他们害怕自己多年努力建立起来的芯片产业链优势被我们颠覆 。
其实 ， 事情的变化就在这五年内 ， 2019年的时候 ， 欧美牛气哄哄 ， 认为他们一断供 ， 我们芯片就要凉了 ， 到了2020年拜登时代的时候 ， 这种认知更是被扩大了 ， 而2020到2022这两年 ， 美国也是在加大封锁力度 ， 认为自己胜券在握 。
可是 ， 到了2023年下半年整个画面却发生了根本性改变 ， 在2023年上半年 ， 无论是耶伦还是雷蒙多都趾高气昂的告诉我们 ， 想要和美国缓和 ， 那么我们就要放弃对于高科技领域的研发投入 。
可是下一秒 ， 华为芯片的回归 ， 直接打脸了拜登、耶伦、雷蒙多等人 ， 也是从2023年下半年开始 ， 整个情况开始逆转 ， 我们从芯片到EDA软件再到芯片制造设备都开始出现大规模突破 。
【美国的七寸被击中了，中国使出关键一招，美媒彻底慌了，西方开始害怕了】虽然我们依旧只能生产制造低端芯片 ， 但是 ， 芯片限制的压力已经小了非常多 ， 甚至于我们都发现 ， 我们现在只是缺时间 ， 只要有时间我们就可以实现最终突破 ， 从来没有人认为我们无法完成突破 ， 这一点哪怕是美国智库都如出一辙 。
推荐阅读
- 手机里的飞行模式作用太大了，如果每天不用，那就太可惜了
- 可以“闭眼买”的四款高端机，16GB+512GB价格大跳水，用五年不卡
- 6400毫安+5.5G网络！这款7.98毫米的游戏手机即将发布
- 3000元左右性价比高的手机最新排行，每款都能做主力机，随便选
- 2000元就能买到这样的手机？让人难以置信
- 如日中天的AI大模型，也到了发展幻灭期！
- DDR5内存的发展趋势
- 1800以内好用不贵的三款手机，用到2028年也没有问题！
- 骁龙8Gen3旗舰跌至2581元，5800mAh+120W，被忽视的优质手机
- 未来不会被人工智能取代的4个专业，第1个最稳定，第4个性价比高