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目前制造7nm以下芯片 ， 全部采用光刻技术 。 而EUV光刻机 ， 则是制造7nm以下芯片 ， 必不可少的设备 ， 全球只有ASML一家能够生产 ， 最便宜的EUV光刻机 ， 都需要1.5亿欧元左右一台 。
而像三星、台积电、intel等 ， 众多的芯片厂 ， 都是从ASML那抢购EUV光刻机 ， 可见这个市场 ， 目前还是卖方市场 ， 不是买方市场 。
在这样的情况之下 ， 其它半导体设备厂商 ， 也是蠢蠢欲动 ， 想要生产出与EUV抗衡的设备来 ， 但生产EUV光刻机 ， 则不太现实 ， 因为一些核心供应链、专利等 ， 都被ASML垄断了 。
所以其它厂商 ， 都是通过其它办法 ， 来生产类似于EUV的光刻机 ， 制造5nm芯片 。
【佳能NIL设备出货：不需要EUV，制造5nm芯片，成本低90%】比如佳能 ， 就走的是纳米压印这条路 ， 纳米压印技术的原理很简单 ， 就像盖章一样 ， 第一步先雕刻一个图章出来 ， 下一步拿这个图章 ， 直接印到硅晶圆上 ， 就形成了电路图 。
只要这个图章不磨损 ， 就可以一直盖章盖下去 ， 看起来确实简单很多 ， 原理也简单 。
去年的时候 ， 佳能正式发布了全球首款NIL系统FPA-1200NZ2C ， 表示这台设备 ， 可以制造最小线宽14nm的芯片 ， 从工艺制程来看 ， 也就是5nm 。
而近日 ， 佳能的这个设备 ， 正式出货了 ， 第一个客户是美国德克萨斯州的半导体联盟—德克萨斯电子研究所 （TIE） 。
按照佳能的说法 ， 这种NIL纳米压机 ， 其售价只有EUV光刻机的10%左右 ， 大约也就是1500万欧元 。 而使用NIL设备来制造芯片 ， 一整套设备的成本 ， 相比于EUV光刻机生产线的成本 ， 可能会低40%~50% 。
看起来似乎便宜很多 ， 优势明显 ， 但其实NIL纳米压印的缺点也非常明显 ， 一是生产效率不高 ， 其产能 ， 无法和EUV光刻机相比 ， 如果像台积电这种大规模制造芯片 ， 很难实现 。
另外就是使用NIL设备来制造芯片 ， 几乎整套设备生产线 ， 都要换掉 ， 和EUV生产线不兼容 。
所以 ， 目前真正愿意使用NIL生产线来制造芯片的厂商 ， 并不多 ， 因为有这个能力制造5nm芯片的厂商 ， 之前的生产线 ， 大多都是基于EUV的 ， 全部换掉 ， 不太现实 。
所以购买佳能NIL设备的 ， 主要是一些研究机构 ， 大家也没有大规模生产芯片的需求 ， 更多的的研究需要 。
当然 ， 中国其实是有机会成为佳能NIL设备的最大客户的 ， 毕竟我们买不到EUV也没有EUV生 线 ， 是从0开始的建设NIL生产线 ， 非常合适 ， 但因为禁令 ， 佳能不能卖给中国 ， 真是遗憾 。
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