2016年营收67亿欧元，增长8.1%，净利润15亿欧元，增长5.5% 。2017年半导体行业还是景气，公司业绩开始增速；2017年前三季，公司营收65亿欧元，同比增长32%，净利润15亿欧元，同比增长56% 。预计2017年的营收可以增长25%左右 。芯片巨头ASML将收购一美国企业2012年10月18日全球芯片制造业龙头企业ASML公司将以19.5亿欧元的价格，收购美国Cymer公司，从而获得后者掌握的核心技术，生产更小巧、更智能的芯片 。
这家荷兰芯片巨头称，这笔现金价股份的兼并交易将加快远紫外（EUV）半导体印刷的研发步伐，利用这种技术制造出来的芯片，将促进新一代智能手机和平板电脑产品的生产 。ASML正在升级用于生产新一代芯片的设备 。7月份，该公司将23%的股份卖给了英特尔、三星电子和台湾半导体股份有限公司，为新设备的技术研发提供资金 。
但受在光技术领域的限制，研发始终进行得十分缓慢 。而本次交易的收购对象Cymer掌握着核心光技术 。ASML首席财务官皮特·温尼克说：“我们相信两家公司的合并将加快远紫外源的开发 。”ASML收购Cymer交易的股份与现金比例为3比1 。ASML给Cymber股东们开出的价格是每股Cymer公司兑20美元，外加1.1502股ASML股票 。
以此计算，ASML对Cymber开出的价钱比后者近期股价溢价61% 。ASML公司发言人称，公司将从30亿欧元的可用储备资金中拿出6.3亿美元，支付给Cymer，并通过发行新股的方式支付余下的款项 。EUV：半导体业的终极武器光刻机的王者这全靠总部后头那栋最高机密的巨型厂房，里头身穿无尘衣的员工正在组装，如同货柜车般大的EUV微影系统3350B之赐 。
这是令全球半导体业引颈期待的终极武器 。台积电、英特尔都寄望，这台史上最昂贵的工具机，会在2017年开始试产的七奈米制程大发神威，成为主力机种 。全球每年生产上百亿片的手机晶片、记忆体，数十年来都仰赖程序繁琐，但原理与冲洗照片类似的曝光显影制程生产 。光刻(lithography)设备是一种投影曝光系统，由紫外光源、光学镜片、对准系统等部件组装而成 。
在半导体制作过程中，光刻设备会投射光束，穿过印着图案的掩模及光学镜片，将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上;通过蚀刻曝光或未受曝光的部份来形成沟槽，然后再进行沉积、蚀刻、掺杂，架构出不同材质的线路;此制程被一再重复，就能将数以十亿计的 MOSFET或其他晶体管，建构在硅晶圆上，形成一般所称的集成电路 。
集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上做出来的，光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗 。光刻机是半导体行业的最关键设备，因为它决定了光刻工艺的水平 。工欲善其事，必先利其器，要想开发先进的半导体制程，就必需要有先进的光刻机 。其中以投射出电路图案的微影机台最关键、也最昂贵 。过去十多年，全球最先进的微影机，都采用波长一九三奈米的深紫外光，然而英特尔、台积电量产的最先进电晶体，大小已细小到仅有数十个奈米 。
这形同用同一支笔，要写的字却愈来愈小，最后笔尖比要写的字还粗的窘境 。要接替的超细字笔，技术源自美国雷根时代星战计划，波长仅有十三奈米的EUV；依照该技术的主要推动者英特尔规划，2005年就该上阵，量产时程却一延再延 。因为这个技术实在太难了 。EUV光线的能量、破坏性极高，制程的所有零件、材料，样样挑战人类工艺的极限 。
例如，因为空气分子会干扰EUV光线，生产过程得在真空环境 。而且，机械的动作得精确到误差仅以皮秒（兆分之一秒）计 。最关键零件之一，由德国蔡司生产的反射镜得做到史无前例的完美无瑕，瑕疵大小仅能以皮米（奈米的千分之一）计 。如果反射镜面积有整个德国大，最高的突起处不能高于一公分高 。阿斯麦的光刻机按照使用的光源不同，可以分为DUV光刻机和EUV光刻机 。
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