光刻机唯一上市公司,承担光刻机攻关任务 _承担

中国目前离自主研制光刻机还有多远？

“还有多远”？我们国内真正意义上的光刻机自主研制从2007年就开始了，离今年已有较远，让自主研制的90纳米光刻机在 3 年前就有了，离自主研制的28纳米光刻机的推出还有不远；重点在于，是自主研制将让国产光刻机迅速发生、实现从低端到中端的转变、升级，高端光刻机的研制因此而获得厚实的技术基础和经验积累，特别是一以贯之地获得了自主的基因。
我们国内针对光刻机的自主研制是“被逼出来的”！应该可以这么说吧？上海微电子在2002年成立后的第五年，便研制出了90纳米光刻机的样机，成功得很快！虽然离我们国内在上个世纪70年代末期研制成功的“第一台”国产光刻机已有很远，二者却在核心技术上彼此彼此、一般无二，主要依赖的是国外的现成技术，所以才很快！问题在于即使如此，据报道，还是遭到了欧美日的围堵，被断供了关键的零部件，导致不能量产，本来是可以马上就投入量产的。
正是依靠自2007年起的历时9年自主研制，例如，长春光机研究所自研镜头曝光系统，中科院光电研究院自研激光光源，浙江大学自研浸液系统，清华大学自研双工作台，上海微电子集成研制的90纳米光刻机整机得以在2018年3月通过正式验收，9 年比起 5 年是慢的，是啊，现自研、现自制肯定慢，实现的却是自有！不仅产品自有，技术也是自有的，而自有才能自主，自主才能自供，自供才能自控，关键是必定能够让后来更为复杂、更高难度的自主研发和自主制造快起来！28纳米国产光刻机即将证明、证实这些道理！国产光刻机技术链产业链供应链的自主程度是我们国内芯片业中最高的。
这毋庸置疑！尽管，即便推出了28纳米国产光刻机，相比芯片设计、芯片制造、芯片封装 3 个环节，国产光刻机制造环节也是已达到技术高度最低的，唯一的最低，然而，却连同90纳米国产光刻机，让我们国家成为了世界上至今为止唯一的 1 个主要依靠本国的技术研制出光刻机的国家，特别是成为了最有希望自主造出高端光刻机的国家，一国冲破美国及其盟国盟友多国长期以来所实施的技术封锁，虽然离造出来还有挺远。
目前为止，我们国家只不过现有低端、将有中端的光刻机，这是事实，又都是自主研制出来的，这也是事实，这个事大！如果不是这样，美国和荷兰政府就不可能让ASML向我们国内企业大量销售DUV光刻机，急不可耐、诚惶诚恐似的，于是，中芯国际就不可能得以攻克自28纳米至7纳米 5 个世代的工艺技术，这些个事无论对一个企业还是对我们国家也都是大事；而华为，也就不可能至今仍在与中芯国际合作着，合作的结果则是华为获得了中端麒麟芯片产品、继续推出了中端麒麟手机成品，这肯定是有助于5G、芯片、手机等技术在国际领先或先进的华为遭打压而不倒，显然，这个事对于我们国家而言也是大的，可以说是更大的事！从基础研究开始的自主研制，作用、影响、意义本来、向来就都是大的，因为唯有自主研制才能够真正把关键核心技术掌握在自己手里。
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