目前光刻机可以分为三个档次：荷兰ASML垄断了高端光刻机市场，代表作：EUV光刻机；日本尼康和佳能占据了中端光刻机市场，止步于28nm；上海微电子只能占据低端光刻机市场，90nm光刻机 。目前我国的光刻机水平处于市场最底端，和日本都有差距，和荷兰ASML差距则更大 。90nm与5nm差距有多大呢？最先进的EUV光刻机，在台积电的生产技术下，已经成功量产5nm芯片，苹果A14、麒麟9000已然应用于手机上，3nm工艺制程也在试验阶段，上海微电子的90nm工艺与ASML的5nm工艺相差5代 。
表面上看，90nm跟28nm或者是7nm从数字上来看差距不是很大，但实际上这里面是千差万别的，光刻机每上一个台阶技术难度就会大大增加，可能从90nm升级到65nm并不难，但是从65nm升级到45nm，就是一个技术节点了，45nm的光刻机技术明显要比90nm和65nm难很多，至于28nm、14n、7nm、5nm，甚至未来有可能出现的3nm，那难度就更大了，也正因为如此，我国的光刻机的研发进度一直都比较缓慢 。
EUV光刻机研发时间超过了20年，几十个国家，上百所研究单位在无数个日日夜夜，无数次失败之后才成功研发出5nm工艺的EUV光刻机 。其中美国投入了50多个高校和科技企业进入到这个领域，欧洲共35个国家，110多个高校和科技企业加入到研究中 。在极紫外光源上，贡献最大的就是美国，美国不仅掌握了核心技术也拥有了核心专利，就是在整个EUV光刻机专利中，美国也是拥有了相当一部分，因此美国完全有能力阻止中国购买EUV光刻机 。
在国内，光源顶级科研机构就是中科院光电所，但其技术还处于365nm的水平，也就是i-line阶段，实验室能够做出的芯片最高水平也只是在22nm，后面仍有很长的路要走 。在镜头市场上，德国蔡司处于第一梯队，其次就是日本的尼康和佳能，而我们在高端镜头市场上几乎为零，如果要追赶上德国蔡司的技术，没有几十年的努力是根本不可能的 。
【一台7nm光刻机多少钱,光刻机多少钱一台】当然介于目前我们和德国的关系，还是有机会买到高端镜头的 。ASML高管就曾经说过：“即使他们公开EUV光刻机的图纸，现在也没有哪家公司能够山寨”，因为EUV的技术研发的难度实在是太大了 。再来看一看不同工艺制程的芯片差距，以华为的麒麟芯片为例：麒麟950，16nm工艺制程，30亿个晶体管，4x2.3GHz A72 4x1.8GHz A53的架构；麒麟990，7nm工艺制程，103亿个晶体管，包括一个3.13GHz A77大核心、三个2.54GHz A77中核心、四个2.04GHz A55小核心 。
麒麟9000，5nm工艺制程，153亿个晶体管，包括一个3.13GHz A77大核心、三个2.54GHz A77中核心、四个2.04GHz A55小核心 。可以看出，随着工艺制程不断的升级，芯片的晶体管数量也在快速地增加，性能也不断的变强 。16nm工艺制程的芯片晶体管数量仅为5nm工艺的1/5，那么90nm与5nm的差距只会更大 。
我国造一台全球先进的光刻机需要多少年按照国外的经验来推算，我国制造出EUV光刻机至少需要20至30年的时间，加上美国对技术和零部件的封锁，我们要花费的时间会更长 。时代在变化，科技在发展，我们也要用变化的眼光去看待这件事，更何况这件事交给中国人去做 。1964年10月16日，中国第一颗原子弹在罗布泊爆炸成功 。
自1955年以来，中国咬紧牙关，不惜国力秘密研究原子武器 。按陈毅元帅的话说：“中国人就是没有裤子穿，也要造出原子弹” 。而当时的苏联领导人赫鲁晓夫就大言不惭地说中国离开苏联不可能研制成功，结果被打脸 。1967年6月17日上午8时中国第一颗氢弹空爆试验成功，从第一颗原子弹到第一颗氢弹，白手起家的中国人只用了两年零八个月的时间，堪称军事科学历史上的奇迹，而我们制造氢弹的目的是希望世界和平安宁，让核武器永无用武之地 。
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