1970年4月24日21时中国第一颗人造卫星"东方红一号"发射成功，由此开创了中国航天史的新纪元，使中国成为继苏、美、法、日之后世界上第五个独立研制并发射人造地球卫星的国家 。中国再一次创造了世界奇迹 。这就是著名的“两弹一星”，凭借着“两弹一星”精神，我们定能够攻破高端光刻机，而事实上，在该领域我们也在不断的突破：2018年8月份，清华大学的研究团队研发出了双工作台光刻机，这使得我国成为全球第二个具备开发双工作台光刻机的国家 。
2018年11月，由中国科学院光电技术研究所所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，该装备采用365nm波长的紫外光单次成像，实现了22纳米的分辨率，结合双重曝光技术后，未来还有可能用于制造10nm级别的芯片 。2019年4月，武汉光电国家技术研究中心甘棕松团队采用二束激光在自主研发的光刻胶上突破了光束衍射极限，采用远场光学的办法，成功刻出9nm线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新，这个技术突破让我国打破了三维纳米制造的国外技术垄断 。
在一系列的创新下，在不断地努力，攻坚克难后，我国攻克高端光刻机的时间，绝对不需要20年，也许10年，甚至更短的时间就可以实现 。问答总结在光刻机制造领域，虽然我国跟ASML等顶尖企业还有很大的差距，但是我们也看到目前我国的光刻机研发进步是非常明显的，未来我国光刻机跟国际的差距会逐渐缩小，甚至会很快会达到世界先进水平 。
在“两弹一星”精神的引领下，集中中华民族的伟大智慧，不断的攻坚克难，不断的吸收完善技术 。在光源系统领域打破美国的垄断，在高端镜头领域与德国蔡司合作，中科院、清华、北大、华为、上海微电子、中芯国际等高校、科研机构、科技企业的通力合作和大力支持下，我国的光刻机水平定能快速的突围 。10年，也许更短的时间就可以攻破高端光刻机 。
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