中芯国际已经有了制造7nm的光刻机，这会对芯片产业造成什么样的影响？
科技的革命，芯片的制造，芯片的用途都可能改变 。华为被打压，人们重新认识了芯片，芯片断供，人们又知道了光刻机，如果中芯国际有了制造7nm的光刻机，那么5nm甚至更小的也是时间问题 。当中科院宣布，把别人卡脖子的清单，变成我们的任务清单之后，引起了很大的反响，不管外界是什么态度，我想我国的战略调整必将改写芯片的历史 。
造光刻机的荷兰ASML宣称，给我们图纸也造不出，台积电的张忠谋叫嚣，举全国之力也造不出来，其实这些就是别人卡我们的底气 。不过，中国所有的先进科技都是在别人的封锁下绝地反击的 。有消息称，手机将来有可能不用芯片，这不是不可能，当年我们用胶卷的照相机，怎么也想不到数码相机的出现，胶卷就完成了历史使命 。录像机有录像带，现在换成硬盘、存储卡，甚至云端 。
科技在革命，不断颠覆人们的认知，也许有一天芯片也被替代了 。华为云手机、云电脑的概念，有一块屏幕就可以成为手机和电脑的功能，这不是不可能，科技正在改变我们的生活 。再说芯片制造的光刻机，我想也会有颠覆性的革命，受技术条件限制，当时最先进的EUV光刻机需要10万个零部件，将来技术的变革，光刻机会是另一种状态 。
目前中国知道的有中芯国际，上海微电子等有光刻机，但制程相对较高，达不到麒麟芯片5nm的要求，但随着攻关，和技术的成熟，这些难题都会解决，特别是中国上下一条心，举全国之力，不论人才，经费都是没有任何一家外国公司可比的，他们不了解中国人的决心和实力，光刻机一定会由中国人来改变 。我想我们不仅会造出5nm的光刻机，而且会打破行业垄断，甚至制造芯片由传统的光刻机由另一种颠覆性的机器替代，现在还想卡压中国的人都是痴心妄想和自不量力 。
芯片七纳米制程，是指晶体管之间的间距是七纳米，还是晶体管的尺寸是七纳米？
我来简单说说吧！1、纳米是尺寸还是间距：用最直白的话说，芯片制造工艺中的5nm、7nm其实指的就是晶体管尺寸 。一般专业术语称之为晶体管栅极的宽度（下图红框就是栅极），也就是所谓的栅长 。栅长的宽度越小，也就意味着晶体管的尺寸越小 。2、晶体管小的好处：晶体管越小也就意味着在单个晶圆体上能塞入更多的晶体管，相同晶圆体面积的情况下，这样就可以以更小的功耗来容纳更复杂的电路系统，也就意味着了电路系统集成度更高，能实现更大的运行速率 。
目前晶圆体尺寸最小能达到4寸，不过集成电路主流是使用8寸的晶圆体（见图） 。3、晶体管尺寸不能无限缩小：当然，在我们这个世界很多技术都会遇上物理极限，晶体管尺寸也一样 。按照现有的技术，当晶体管达到20nm时就会产生量子物理问题，比如漏电等 。因此，随着尺寸的越来越小，要解决的技术问题也就越多，厂商的研发难度也就越高 。
现在的7nm的制造工艺已经接近物理极限，而台积电现在已经准备研制5nm制造工艺，真要成功基本算是要突破物理极限了 。4、光刻机和蚀刻机的作用：要想实现纳米级晶体管制造，最终都离不开这两种设备 。前者的主要作用是在晶圆体上涂抹光刻胶并进行光腐蚀，并在其中包含编码等内容；而后者则是将光刻机复印在晶圆体上的电路进行蚀刻，最终形成栅级，也就是前面说的晶体管 。
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