10月10日消息 ， ASML 新任首席执行官 Christophe Fouquet 近日在SPIE大会上介绍了ASML的High NA EUV光刻机 ， 并表示英特尔的第二套 High NA EUV光刻机已经组装完成 。
【英特尔已经完成第二套High NA EUV光刻机组装】Christophe Fouquet表示 ， High NA EUV光刻机将不太可能像当前标准EUV光刻机那样出现延迟交货的情况 ， 其原因是ASML找到了组装扫描仪子组件的新方法 ， 就是直接在客户工厂进行安装 ， 无需经历拆卸及再组装的过程 ， 这将大大节省ASML与客户之间的时间和成本 ， 有助于加快High NA EUV光刻机的发货和交货 。
英特尔院士兼曝光技术总监Mark Phillips在Christophe Fouquet之后的演讲中也表示 ， 英特尔已经在波特兰工厂完成了两套的High NA EUV光刻系统的安装 。
此外 ， Mark Phillips 还公布了一些的数据 ， 说明了 High NA EUV光刻机相对于标准EUV光刻机所带来的改进 ， 通过High NA EUV光刻机应用出来的改善结果可能要比之前想象中还要多 。
Mark Phillips 强调 ， 由于已经有了经验 ， 第二套 High NA EUV光刻系统的安装速度比第一个还要更快 。据称 ， High NA EUV光刻机所需的所有基础设施已经到位并开始运行 。用于 High NA EUV光刻机的光罩检测工作已经按计划开始进行 。因此 ， 英特尔无需做太多辅助支持工作即可将其投入生产 。
另外 ， Mark Phillips还被问到了关于CAR（化学放大抗蚀剂）与金属氧化物抗蚀剂的问题 。他的说法是 CAR 目前还够用 ， 但可能在未来某个时候需要金属氧化物光阻剂 。 英特尔目标是要Intel 14A制程技术能在2026~2027年量产 ， 届时将制程技术进一步进行提升 。
编辑：芯智讯-林子
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