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11月29日,中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收 。消息传着传着,就成了谣言——《国产光刻机伟大突破,国产芯片白菜化在即》《突破荷兰技术封锁,弯道超车》《厉害了我的国,新式光刻机将打破“芯片荒”》……
笔者正好去中科院光电所旁听此次验收会,写了报道,还算熟悉,无法苟同一些漫无边际的瞎扯 。
中科院研制的这种光刻机不能(像一些网媒说的)用来光刻CPU 。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率,用于一些特殊制造场景,很经济 。
先解释下:光刻机不光是制造芯片用 。一张平面(不论硅片还是什么材料)想刻出繁复的图案,都可以用光刻——就像照相,图像投在感光底片上,蚀掉一部分 。半个多世纪前,美国人用这个原理“印刷”电路,从而有了大规模集成电路——芯片 。
为了节能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻机越做越极端 。线条细到一定程度,投影就模糊了 。要清晰投影,线条粗细不能低于光波长的一半 。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源,好刻10纳米以下的线条 。
但稳定的、大功率的极紫外光源很难造,一个得3000万元人民币 。要求工作环境严苛,配合的光学和机械部件又极端精密,所以荷兰的ASML公司独家垄断极紫外光刻机,创造了“一台卖一亿美金”的神话 。
十几年前,国际上开始对表面等离子体(surfaceplasma,SP)光刻法感兴趣 。中科院光电所从2003年开始研究,是较早出成果的一个团队 。所谓SP,光电所的科学家杨勇向笔者解释:拿一块金属片和非金属片亲密接触,界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上,这些电子就有序地震荡,产生波长几十纳米的电磁波,可用来光刻 。
但这种电磁波很弱,所以光刻胶得凑近了,才能刻出来 。且加工精度与ASML的光刻机没法比 。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的,至少以现在的技术不能 。
验收会上也有采访人员问:该光刻设备能不能刻芯片,打破国外垄断?光电所专家回答说,用于芯片需要攻克一系列技术难题,距离还很遥远 。
总之,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事,说前者弯道超车,就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特 。
各家媒体第一时间报出的信息,就我看到的还算中规中矩 。但后来网媒添枝加叶,搞到离谱 。有些传播者为吸引眼球、赚钱,最爱制造“自嗨文”和“吓尿体” 。听到国产科技成就先往大里吹,驴吹成马,马吹成骆驼,好卖个骆驼价 。
【科技日报 中国科技日报官网】这种“科技报道”是满足虚荣心的伪新闻 。行家听了眉头一紧,避之大吉 。也难怪许多科学家怕上新闻 。
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