4d芯片能生成什么芯片 cd42芯片( 二 )


【4d芯片能生成什么芯片 cd42芯片】电池层间高度降低技术
随着层数的增加,通过钻孔形成存储单元就会变得困难 。这导致电阻增加,电流减少,难以保证性能和可靠性 。为此,这就需要尽可能降低单元间层的高度,但这会增加单元间的干扰和缺陷率 。电池层间高度降低技术不仅大幅降低了176层的电池层间高度,而且通过相关工艺和设计技术确保了具有竞争力的性能/可靠性 。
层变定时控制技术
增加层数和降低层高往往会导致通道孔扭曲和单元散射恶化,从而降低每一层的性能和可靠性 。该技术根据每层的特性调整施加电压的数量和时间,以保持均匀的电池特性,提高了性能和可靠性 。
超精密定位技术
由于随着层数的增加,不可能一次钻出用于单元形成的孔,所以使用两次钻出孔的双堆叠工艺 。双堆叠技术的核心是使堆叠误差最小化 。如果堆栈没有正确对齐,将导致堆栈之间的电流流动不顺畅,并发生恶化,降低成品率、性能和可靠性 。SK海力士自2017年推出72层的产品以来,就一直在使用双堆叠技术,对176层产品进行了改进,并基于自身的专业知识,实时自动校正孔的位置和尺寸 。
存储厂商们各自努力,176层顶峰见实力
在全球NAND市场份额中,虽然美光排在第七位,但是在堆叠能力方面,美光却毫不逊色 。美光是第一家发布176层3D NAND的存储厂商,其第五代3D NAND闪存是176层构造,这也是自美光与英特尔的存储器合作解散以来推出的第二代产品 。2020年11月9日,美光宣布将批量发售世界上第一个176层3D NAND 。
据美光官网介绍,该176层NAND采用了独特的技术,替换门架构将电荷陷阱与CMOS阵列下(CuA)设计相结合,与同类最佳竞争产品相比,其die尺寸减小了约30% 。
三星电子作为全球NAND领导者,占有33.8%的市场份额,如果三星想在很长一段时间内保持这一头把交椅,就必须始终走在前面 。三星电子计划在2021年上半年大规模生产具有170层或更多层的第七代V-NAND闪存,并将使用字符串堆叠方法,结合两个88L模具,新芯片还将采用“双栈”技术 。行业观察家表示,由于三星电子改变了其堆叠方法,该产品的发布已被推迟 。
铠侠也没闲着,值得一提的是,NAND闪存由东芝于1987年首次提出的 。今年10月,铠侠表示,铠侠将在日本中部三重县的四日市工厂内建立一个新的1万亿日元(95亿美元)工厂,以提高其尖端NAND闪存的产量,因为他们的目标是满足5G增长推动的不断增长的需求网络 。这项投资将与美国合作伙伴Western Digital进行 。该工厂将从明年春季开始分两个阶段进行建设 。这家占地40,000平方米的工厂将是铠侠最大的工厂 。
英特尔也谈到了他们的3D NAND技术 。早在2019年9月于韩国首尔举行的英特尔存储日上,英特尔宣布他们将跳过业界大多数人正在开发的128层NAND闪存节点,并将直接跳到144层 。
西部数据于今年1月份宣布,它已经成功开发了其第五代3D NAND技术BiCS5,BiCS5设计使用112层,而BiCS4使用96层 。
长江存储进步非凡,他们坚持创新发展,走差异化的路线,于2018年7月正式推出自家的独门绝技Xtacking?架构 。传统3D NAND架构中,外围电路约占芯片面积的20~30%,降低了芯片的存储密度 。随着3D NAND技术堆叠到128层甚至更高,外围电路可能会占到芯片整体面积的50%以上 。Xtacking?技术将外围电路置于存储单元之上,从而实现比传统3D NAND更高的存储密度 。2020年4月,长江存储抢先推出了128层QLC 3D NAND闪存芯片X2-6070 。目前长江存储的技术已经处于全球一流的水准,下一步就是解决产能的问题 。

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