首先是国产光刻机技术实现多项突破 ， 老美感受到危机 。从哈工大的超高速精密激光干涉仪 ， 到上海微电子的28nm光刻机的研制 ， 老美感受到我国光刻机技术的飞速发展 。为了限制我国光刻机产业的发展老美采用了微软的那套方式 ， 让我国暂缓光刻机的研发 。
其次是上海微电子的SEMM光刻机价格便宜不到2000万元 ， 有价格优势 。和ASML动辄1亿美元光刻机 ， 尼康、佳能几千万美元的光刻机相比 ， 上海微电子的SEMM光刻机更具性价比 。
最后是我国的上海积塔半导体公司已经中标ASML公司6台光刻机 ， 这6台光刻机将在近日运回我国 。不难看出 ， 老美的“美日荷封锁联盟”已经失策 ， 老美有紧迫感了 。为了占据市场份额 ， 老美才提出解禁条件 ， 允许美企向中企自由出货 。
写在最后虽然上海微电子的SEMM光刻机和ASML、尼康、佳能的DUV光刻机、EUV光刻机有不小的差距 。但万事开头难 ， 我国已经可以在自己的供应链的体系下生产出SEMM光刻机 ， 这已经实属难得了 。
相信在不久的将来 ， 上海微电子的28nm光刻机将会量产上市 ， 到时候我国在28nm光刻机市场就不会受制于人了 。
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