美国芯片霸权岌岌可危！中国绕过EUV，用这个神奇技术造出2nm芯片 _云知道

美国一直想要打压中国的芯片产业，不惜动用各种手段，包括禁止华为使用高端芯片、阻止ASML向中国出口EUV光刻机、组织“芯片四方联盟”围堵中国等等。然而，美国的这些举动不仅没有让中国屈服，反而激发了中国的创新力和斗志。最近，有消息称，中国已经突破了7nm工艺的限制，利用一种神奇的技术，成功制造出了2nm芯片！这个技术就是NIL纳米压印光刻技术，它可以绕过EUV光刻机的限制，直接将微电路图案印在晶圆上。这是一个颠覆性的创新，它将让中国在芯片领域实现超越！

华为Mate60 Pro证明了中国芯片的实力我们都知道，华为是美国打压中国芯片产业的重点对象。去年，美国强迫台积电切断了麒麟芯片的供应，导致华为手机陷入了困境。但是，华为并没有放弃，而是加快了自主研发的步伐。今年9月份，华为发布了Mate60系列手机，其中Mate60 Pro搭载了麒麟9000S芯片。这款芯片采用了国产7nm工艺制造，性能强劲，日常体验完全可以媲美搭载3nm A17 Pro芯片的iPhone 15 Pro 。

【美国芯片霸权岌岌可危！中国绕过EUV，用这个神奇技术造出2nm芯片】而且华为Mate60 Pro的销量也非常惊人，预计今年将达到5000万台。相比之下，iPhone 15 Pro则遭遇了大幅度的跳水。这说明了什么？说明了中国已经不再依赖外国的高端芯片，而是可以自己造出世界级的芯片！而且据悉，明年华为还将推出超旗舰10系芯片和9系旗舰芯片，采用3D堆叠工艺，性能将更上一层楼！
佳能NIL技术让ASML汗颜当然，我们也不能忽视EUV光刻机在芯片制造中的重要作用。EUV光刻机可以制造出更小更精密的图案，从而提高芯片的性能和效率。目前全球只有荷兰ASML一家企业能够生产EUV光刻机，并且受到美国的控制和影响。ASML曾经拒绝向中国出口EUV光刻机，并且嘲笑中国无法自主研发高端光刻机。

但是现在ASML可能要后悔了，因为日本佳能公司已经研发出了一种可以替代EUV光刻机的技术——NIL纳米压印光刻技术。这种技术不需要使用复杂昂贵的透镜和光源，只需要将带有微电路图案的掩模直接印在晶圆上就可以了。这样既可以节省成本，又可以降低功耗和污染。而且最关键的是，这种技术可以制造出最小线宽为14nm的图案，等效5nm工艺。如果改进掩模，甚至可以制造出2nm芯片！
这是一个令人震惊的消息，因为这意味着我们完全可以不用EUV光刻机，就可以制造出世界上最先进的芯片！而且佳能的NIL技术并不包含美国技术，美国无法限制对中国的出口。我们完全可以借助佳能NIL技术制造高端芯片，ASML完全可以被抛弃！
美国芯片霸权岌岌可危ASML也意识到了自己的危机，所以最近一直在向中国示好，并且疯狂地向中国出货DUV光刻机。但是这已经为时已晚，中国已经不再需要ASML的光刻机了。我们已经有了自己的7nm工艺，也有了佳能的NIL技术，我们完全可以自主研发和制造高端芯片。