【光刻机原理 进来看看】1、光刻机制作芯片的过程 ， 基本和“冲印照片”一样 。假设拍的是风景 ， 胶片上会有曝光痕迹 ， 先要在暗室里显影 ， 让风景在胶片上显示出来 。然后在红光下通过放大机 ， 把胶片上的风景投射到相纸上 ， 让相纸曝光 。再通过相纸的显影、定影、烘干得到最终的照片 。除了风景之外 ， “照片冲印”需要有胶片 ， 有光源、放大机、相纸 。
2、对光刻机来说 ， 所谓“风景”就是设计好的集成电路图（IC） ， “胶片”就是一块石英板（光罩） ， 用来记录集成电路图 ， “相纸”就是硅晶圆 ， “放大机”就相当于光刻机 。
3、所不同的是 ， 洗照片是放大 ， 把小胶片放大到相纸上 ， 光刻机是缩小 ， 把电路图缩小到晶圆上 。
4、在光刻机领域 ， 有三家国际大牌：荷兰ASML（艾斯摩尔） ， 日本Nikon（尼康） ， 日本Canon（佳能） 。但高端光刻机市场 ， 荷兰ASML是无可争议的世界霸主 ， 把第二名都甩得很远 ， 因为技术难度太高、需要的投资太大 ， 尼康、佳能已经放弃EUV光刻机的研发 。
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