耍流氓?中国首台光刻机实现量产!美国、荷兰紧急发声:强烈谴责

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文|江卿曻
编辑|江卿昇
前言
就在中国宣布光刻机技术取得重大突破之际 , 美国和荷兰两大芯片强国突然同时发难 , 对中国的技术能力提出质疑和批评 。

面对西方大国的“泼冷水” , 中国光刻机究竟有没有未来?自主创新之路 , 又该如何破局?

芯片制造的“制高点”
说起芯片制造 , 很多人可能会想到晶圆、封装等环节 , 但真正的行家都知道 , 光刻机才是这场游戏的真正主角 。
它就像是芯片制造的“画笔” , 决定了芯片的精度和性能 , 没有高端光刻机 , 想造出先进芯片简直是痴人说梦 。

目前全球光刻机市场可以说是一家独大 , 荷兰的ASML公司独占鳌头 , 垄断了最先进的EUV光刻机技术 , 美国和日本的几家公司勉强跟在后面 , 中国则还在追赶的路上 。
但就在前不久 , 中国突然宣布在光刻机领域取得重大突破 , 这个消息一出 , 立刻在国际上引起轩然大波 。

有人欢呼雀跃 , 认为中国终于要在高科技领域崛起了;也有人嗤之以鼻 , 觉得这不过是中国的又一次“大跃进” 。
然而真相究竟如何?中国的光刻机技术到底达到了什么水平?为什么美国和荷兰会如此紧张?这背后又隐藏着怎样的国际博弈?

要回答这些问题 , 我们得先从光刻机的重要性说起 , 在芯片制造中 , 光刻机的作用就像是画家手中的画笔 。

正是因为光刻机的这种关键作用 , 它成为了各国争相追逐的技术高地 。
谁掌握了最先进的光刻机技术 , 谁就掌握了芯片制造的命脉 , 这也就不难理解为什么美国和荷兰会对中国的进展如此敏感了 。
那么中国在光刻机领域究竟有哪些优势和潜力呢?首先中国拥有庞大的人才储备和研发投入 。

近年来 , 中国在科技领域的投入持续增加 , 吸引了大量海内外人才 , 其次 , 中国有着世界上最大的芯片市场 , 这为本土光刻机企业提供了广阔的试验场 。
但是技术的突破从来都不是一蹴而就的 , 中国在光刻机领域还面临着不小的挑战 , 最关键的是什么?

“泼冷水”背后的焦虑
最关键的是 , 中国还需要在核心技术上实现突破 , 这正是美国和荷兰对中国光刻机技“泼冷水”术的焦点所在 。
就在中国宣布光刻机技术取得进展后不久 , 美荷两国就迅速发难 , 美国媒体率先放出狠话 , 声称中国的光刻机技术不过是“偷来的或山寨货” 。

这种说法虽然刻薄 , 但也不是完全没有来由 , 毕竟在高科技领域 , 中国确实有过“借鉴”他人技术的前科 。
紧接着 , 美国专家们也纷纷站出来唱衰 , 预测中国的光刻机技术“注定要失败” , 这些专家的论调倒是挺统一 , 中国缺乏核心技术 , 无法在短期内追赶上ASML的水平 。

荷兰方面的反应更是耐人寻味 , ASML公司直接表态 , 认为中国企业不可能在短时间内掌握高端光刻机技术 , 这话听起来像是在维护自己的市场地位 , 但细想之下 , 却透露出一丝不安 。
为什么美荷两国会如此紧张?答案其实很简单 , 他们害怕失去对中国的技术优势 。

光刻机不仅是一个价值数十亿美元的大生意 , 更是卡住中国芯片产业咽喉的关键 , 一旦中国在这个领域实现突破 , 整个芯片产业格局都将被改写 。
美国政府的反应更是直接 , 他们开始对ASML施压 , 警告不要向中国出售先进光刻机 。

这种做法虽然打着“国家安全”的旗号 , 但实际上是赤裸裸的技术封锁 , 美国似乎忘了 , 当年他们也是靠“借鉴”欧洲技术起家的 。
这种双标行为背后 , 折射出的是美国对中国科技崛起的深深忌惮 , 他们害怕中国重复日本和韩国的崛起之路 , 从模仿到创新 , 最终在高科技领域与美国分庭抗礼 。

但是美国的这种做法真的能阻止中国的进步吗?历史告诉我们 , 技术封锁往往会激发被封锁国家的创新动力 , 就像当年的“两弹一星” , 中国在被封锁的情况下 , 反而实现了重大突破 。
面对美荷两国的质疑和打压 , 中国的反应可以说是相当克制 , 官方和企业都表示 , 中国的光刻机技术是自主研发的成果 , 绝非“抄袭”或“偷窃” 。

事实上 , 中国在光刻机领域已经布局了十多年 , 从最初的跟跑到现在的并跑 , 一步一个脚印 , 那么中国究竟是如何应对这场技术封锁的呢?又有哪些突破性的进展?

从跟跑到并跑
说起中国的应对策略 , 可以用“稳扎稳打”来形容 , 早在十多年前 , 中国就已经意识到光刻机技术的重要性 , 开始了长期布局 。
从最初的跟跑到现在的并跑 , 中国在这个领域的进步可以说是有目共睹的 。

首先中国投入了大量资金支持光刻机技术的研发 , 据不完全统计 , 仅国家科技重大专项就投入了数百亿元 , 这笔钱不是撒胡椒面 , 而是有的放矢地投向了关键技术领域 。
接着就是中国培养了一批高水平的人才 , 不少海外华人科学家被吸引回国 , 为光刻机技术的发展贡献力量 , 同时国内高校也加大了相关专业的人才培养力度 。

再次中国企业开始了自主创新 , 上海微电子、中芯国际等企业纷纷加入光刻机研发的队伍 , 虽然起步较晚 , 但进步速度惊人 。
面对美荷两国的质疑 , 中国的回应可以说是相当克制 , 官方和企业都强调 , 中国的光刻机技术是自主研发的成果 , 绝非抄袭或偷窃 , 这种自信 , 源于多年来的积累和突破 。

最近中国在光刻机领域取得了一系列突破性进展 , 据报道上海微电子已经成功研制出28纳米制程的光刻机 , 并在14纳米制程上取得重要进展 。
虽然与ASML的7纳米甚至3纳米光刻机还有差距 , 但已经足以满足大部分芯片的生产需求 。

更值得一提的是 , 中国正在探索新的光刻技术路线 , 比如纳米压印技术就被认为是未来光刻机的一个重要方向 , 在这个领域 , 中国已经取得了不少原创性成果 。
当然中国也并非闭门造车 , 在可能的范围内 , 中国企业仍然积极与国际同行合作 , 参与全球技术交流 , 这种开放态度 , 既有利于吸收先进经验 , 也有助于打消国际社会的疑虑 。

面对技术封锁 , 中国选择了隐忍和长远布局 , 不急不躁 , 步步为营 , 这正是中国在高科技领域的一贯作风 。
然而尽管中国在光刻机领域取得了显著进步 , 但挑战依然存在 , 美国的技术封锁仍在持续 , 而且有愈演愈烈的趋势 , 那么在这种情况下 , 中国该如何应对?又该如何在科技竞争中赢得主动?

科技竞争中的双标与挑战
面对美国的技术封锁 , 中国的应对策略可以说是既有韧性又有智慧 , 首先中国并没有选择正面对抗 , 而是采取了“化被动为主动”的策略 。
一方面中国加大了自主创新的力度 , 正所谓“断人粮草 , 逼我自强” , 美国的封锁反而激发了中国科技界的斗志 。

不少企业和研究机构开始另辟蹊径 , 探索新的技术路线 , 比如在EUV光刻机技术受阻的情况下 , 中国开始重点发展纳米压印技术 , 这种技术虽然还不成熟 , 但潜力巨大 , 有望在某些领域超越传统光刻技术 。
另一方面 , 中国也没有完全关上大门 , 在可能的范围内 , 中国仍然积极参与国际合作 。

比如在一些非敏感领域 , 中国企业仍然与欧美日韩等国的公司保持着密切合作 , 这种开放态度 , 不仅有利于技术交流 , 也有助于缓解国际社会的疑虑 。
更值得一提的是 , 中国开始重视“卡脖子”技术的上下游产业链布局 , 光刻机不是孤立的技术 , 它需要大量配套技术和产业支持 。

中国正在努力打造一个完整的光刻机产业生态系统 , 从原材料到核心部件 , 再到整机集成 , 全面发力 。
在人才培养方面 , 中国也有了新的动作 , 除了吸引海外人才回国 , 国内高校也开始加大相关专业的招生力度 , 一些企业甚至开始与高校合作 , 定向培养光刻机技术人才 。

结语
面对美国的打压 , 中国政府的态度也很明确:我们不会被吓倒 , 也不会轻言放弃 , 在最近的一次记者会上 , 商务部发言人表示:“中国有决心、有信心、有能力应对各种风险挑战 , 任何国家和势力都不要指望中国在核心利益问题上让步 , ”
这种自信 , 不是空口说白话 , 而是建立在实实在在的技术进步之上 。
据悉中国已经在28纳米光刻机上实现了量产 , 14纳米光刻机也即将问世 , 虽然与世界顶尖水平还有差距 , 但进步速度已经超出了许多人的预期 。
参考文章
京报网2022年11月23日《外媒:美要求限制光刻机对华出口 , 荷兰抵制》的报道

2022年7月6日《美媒:美国再施压荷兰禁止对华出口光刻机技术 , 荷兰没同意》的报道

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