ASML没有料到，佳能正式宣布，外媒: 光刻机“变革”出现了
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这几年ASML成为半导体市场的香饽饽 ， 究其原因是全球芯片代工厂商对光刻机的需求量太大了 。
毕竟ASML是全球唯一一家可以生产EUV光刻机的厂商 ， 并且浸润式DUV光刻机也占据了全球90%以上的市场份额 。
而EUV光刻机是大规模量产7nm工艺以下芯片的最为重要的设备、没有之一 ， 并且浸润式DUV设备经过多次曝光也可以量产7nm以下芯片 ， 比如台积电就曾用ASML的浸润式DUV光刻机就生产过麒麟990芯片 ， 这款芯片的工艺就是7nm 。
由此可见 ， 但凡芯片代工厂商想要大规模量产7nm及7nm以下工艺 ， 那么ASML就是绕不开的坎 ， 这也是ASML这几年混的风生水起的根本原因 。
本来咱们的中芯国际在2018年的时候从ASML那里采购了一台EUV光刻机 ， 但由于美方的阻扰 ， 这台EUV光刻机最终无法出货 ， 这大大延缓了我国内地厂商自主生产7nm芯片的进程 。
也因为ASML在光刻机市场绝对领先地位 ， 其生产的光刻机售价极高 ， 最便宜的EUV光刻机售价都需要1.6亿欧元一台 。
不过这个局面在最近得到的反转 ， 佳能正式宣布 ， 外媒也表示:光刻机市场“变天”了
近日 ， 佳能研制的全球首款NIL系统FPA-1200NZ2C设备正式出货了 ， 这台设备的卖家是美国德州半导体联盟的一家电子研究所 。
据悉 ， 这台NIL系统FPA-1200NZ2C纳米压机是佳能在去年发布的半导体设备 ， 该系统可以生产最小线宽14nm芯片 ， 工艺制程达到了5nm级别 。 按照这个参数 ， 这款半导体设备也能生产5nm芯片 ， 达到ASML的EUV光刻机的功能 。
和ASML的EUV光刻机相比 ， 这款纳米压机的售价极低 ， 仅1500万欧元 ， 不到前者售价的1/10 。 并且用这种纳米压机生产的芯片成本也比较实惠 ， 大概比EUV光刻机节省40%左右 。 也许ASML也没有料到 ， 佳能也能研制更为便宜的先进工艺设备 。
不管是设备成本 ， 还是芯片生产成本 ， 佳能的这台纳米压机都具备很大的价格优势 ， 这是ASML的EUV光刻机难以媲美的 。 正因为如此 ， 有外媒才表示:光刻机市场的“变革”出现了 。
当然了 ， 这是媒体对这款纳米压机价格上的理解才得出的结论 。 实际情况来看 ， 佳能的这款纳米压机并不能对ASML的EUV光刻机产生实质性威胁 。 为什么这样说呢？我们从两个个方面来看 。
从产能来看 ， 纳米压机类似于盖章 ， 在章子上雕刻一个图出来 ， 用这个章子印在晶圆上 。 而EUV光刻机则是用掩模来阻挡部分光线 ， 从而形成光波图案 ， 再投射到晶圆片上 。
二者比较起来 ， 纳米压机有点像古代的活字印刷 ， 而EUV光刻机像现在的打印机 ， 其工作效率天差之别 。
正因为如此 ， EUV光刻机可以大规模量产7nm及7nm以下芯片 ， 而这款纳米压机只能生产7nm及7nm以下芯片 ， 根本做不到量产 。
从产业链体系来看 ， 目前各大芯片代工厂商都采购了大量的EUV光刻机 ， 这些厂商用EUV光刻机生产先进工艺的芯片已经形成一条产业链 。 如果厂商要用佳能的这款纳米压机 ， 那么它们就需要更换产业链上下游所有的设备 ， 这对芯片代工厂商而言是难以承受的 。
更何况纳米压机的产能非常小 ， 目前还没有与之匹配的产业链上下游设备 ， 这大大的限制的纳米压机的应用空间 。
写在最后
【ASML没有料到，佳能正式宣布，外媒: 光刻机“变革”出现了】不管是从产能来看 ， 还是供应链体系来看 ， 佳能的这款纳米压机对ASML的EUV光刻机没有实质性威胁 。
对于半导体市场而言 ， 佳能的这款纳米压机给广大芯片代工厂商提供了一个思路 ， 那就是生产先进工艺的芯片并不是只有EUV光刻机可以完成 ， 纳米压机的“盖章”工艺也能完成先进工艺 。 如果按照逻辑 ， 那么外媒的“光刻机市场变革出现了”也是很有道理的 。
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