再有美芯抛弃EUV，ASML肠子都悔青了，难怪供应中国的光刻机倍增 _云知道

日前消息指Intel发展的无需EUV光刻机的芯片制造工艺DSA技术取得突破，已达到14纳米，如此一来抛弃EUV光刻机的芯片企业又多了一家，这对于一直遵从美国要求的ASML来说无疑是巨大的打击。

一、芯片企业陆续研发绕开EUV光刻机的技术
最先研发成功无需EUV光刻机的无疑是日本的佳能，佳能研发的纳米压印技术（简称NIL）无需EUV光刻机，目前已突破10纳米，预计最终将达到5纳米工艺，该工艺已被日本的铠侠采用。
日本芯片行业研发NIL工艺其实是一种无奈，当年佳能、尼康等日本光刻机企业主要发展干式光刻技术， ASML则通过与台积电研发浸润式光刻技术迅速将它们挤压，导致日本光刻机行业迅速衰落，再到美国联合ASML研发EUV光刻机，日本光刻机行业彻底衰落，眼见着在技术上无法与ASML较量，于是佳能就选择了无需EUV光刻机的NIL技术，以寻求生存空间。

第二家则是美国芯片企业美光，美光研发的1β工艺也无需EUV光刻机，美光研发1β工艺是为了利用现有的DUV光刻机进一步提升芯片性能，降低生产成本，毕竟EUV光刻机的价格至少是DUV光刻机的三倍，而且所需要的生产材料等成本也更高。
如今Intel则是第三家， Intel研发DSA主要也是考虑生产成本，如今的Intel早已没有当年的风光， AMD依靠Zen架构不断求抢占市场，在桌面PC市场已超越Intel ，这是自2007年以来首次， AMD还在服务器芯片市场打开局面，服务器芯片可是Intel的主要利润来源，这直接导致Intel已连续三个季度出现亏损。
为了降低成本，如今Intel可谓采取了多种办法，去年至今已裁员过万人，如今研发DSA技术无疑也是为了进一步降低生产成本，避免采购更多EUV光刻机，同时采用DSA技术还能进一步提升芯片性能。
二、ASML肠子都悔青了
近几年来ASML可谓对美国言听计从，美国从2018年就要求ASML不要将EUV光刻机卖给中国的芯片企业，去年下半年以来美国又要求ASML不要对中国出售14纳米以下的DUV光刻机，到了近期更计划进一步阻止ASML出售28纳米以下DUV光刻机， ASML基本上遵从了。
【再有美芯抛弃EUV，ASML肠子都悔青了，难怪供应中国的光刻机倍增】

由于遵从了美国的要求， ASML从中国市场获得的收入占比迅速从2022年一季度的三成下降到一成左右，去年ASML的业绩还取得了增长，这一度让ASML的高管放言即使失去中国市场也不会对它造成影响。
然而随着中国芯片自给率的上升，芯片采购量持续下滑，从去年至今中国减少的芯片进口量高达1500亿颗，开始对全球芯片市场产生影响，美国芯片企业大多出现业绩下滑，美国芯片的业绩下滑纷纷减少芯片订单乃至要求台积电降低代工价格，这就导致台积电缩减了芯片产能，自然不再大规模采购光刻机，最终对ASML造成影响。
美国连续两家芯片企业美光和Intel都意图绕开EUV光刻机，这进一步对ASML造成影响， EUV光刻机为ASML的大部分利润来源，美国芯片企业减少EUV光刻机采购量将让ASML备受压力。ASML已积极遵从美国的要求，而美国芯片企业却丝毫不给面子，反而在抛开ASML的光刻机，如此情况可以说ASML真的是后悔得肠子都青了。