西方禁售中国EUV光刻机？清华大学换道超车直接研发光刻工厂！ _云知道

在中美科技战大背景下，荷兰ASML公司的EUV光刻机对中国完全禁售，就算是中芯国际5年前已经付款订购的那台EUV光刻机，ASML也拒绝交付。目的很明显，就是要卡住中国先进制程芯片技术之路。如今中国EUV光刻机研发传出了好消息，清华大学换道超车，研发了SSMB光源技术，通过高能加速器对电子加速，最后输出千瓦量级的EUV光，最高可以达到3纳米制程，整体输出功率比荷兰ASML的EUV光刻机强40倍，这样一套光源系统，就能同时支持数十台EUV光刻机生产，因此利用SSMB光源将成为国产光刻机换道超车的关键技术。

自从2018年美国针对中国开展贸易战、科技战以来，美欧国家对中国的EUV光刻机完全禁售。中国由于无法拿到先进的EUV光刻机，因此只能购买ASML的DUV光刻机，通过多次曝光技术，尽可能创造条件生产先进制程芯片。但是DUV光刻对硅片进行多次曝光之后，芯片的良率又受到很大影响。因此尽管中芯国际拥有梁孟松这样的业界大牛，但是巧妇难为无米之炊，没有EUV就没办法生产先进的5纳米芯片。梁孟松曾经对外公布过，中芯国际早在3年前就掌握了7纳米制程的FINFET制程工艺，而更先进的GAAFET的制程工艺前期的技术验证准备已经完成，只等购买到EUV光刻机，就能开启5纳米及以下制程工艺生产。而EUV光刻机的禁售也让中芯国际的先进制程推进受到很大影响，只能在DUV光刻机上打磨N+2制程工艺，实现7纳米芯片商业化。
ASML公司拒绝出售EUV光刻机，那么中国只能立足于自主研发EUV光刻机。EUV光刻机被西方誉为“工业皇冠上的明珠”，是凝聚西方百年工业的结晶。ASML公司CEO温克宁曾经说过“就算给中国光刻机图纸，中国也制造不出EUV光刻机!”，西方国家的傲慢心理可见一斑。因为一台EUV光刻机有十万个零件组成，其中EUV光源由美国Cymer公司提供，光学系统由德国的蔡司公司提供，ASML则负责集成这些组件并制造出最先进的EUV光刻机。因此ASML公司CEO说出这样的话也说明，他认为全世界任何一个国家都无法独立制造EUV光刻机。

EUV光刻机最核心的技术包括光源系统、物镜系统和工作台系统这三方面。其中EUV光源系统又是最核心的技术。EUV光又叫极紫外光，目前世界上能稳定制造商业化EUV光源系统的国家只有美国，美国Cymer公司通过激光等离子体（LPP）技术，即用二氧化碳激光每秒5万次去轰击液态锡滴，将其激发成高温等离子体，从而发射出极紫外光。原理本身不复杂，但是EUV光源技术要达到商用化，必须要具备一定的输出功率。Cymer公司经历多年发展，目前其EUV光源已经从最初只能输出10瓦左右的功率，增加到了250瓦以上的功率，并且保持了较高的稳定性和可靠性。让EUV光刻机能够实现量产级别的效率和性能。该技术也是世界上目前唯一能够提供商用EUV光源的全球供应商。
荷兰ASML对中国禁售EUV光刻机，也正是因为EUV光源技术掌握在美国公司手里，如果美国不提供EUV光源，ASML的EUV光刻机就无法生产出来。因此中国要研制EUV光刻机，首要问题就是要突破EUV光源技术。凭心而论，要做到美国Cymer公司这样的技术确实有困难，也许需要5-10年时间去研发和改进，才能达到商业化的目的。但是我们条条道路通罗马，产生EUV光的技术又不仅仅只有激光等离子体（LPP）技术这一条路。清华大学此次的SSMB光源技术就是应用了另外的一条路径，也能稳定产生高品质的EUV光。