euv光刻机中国能造吗光刻机中国能造吗( 二 ) _光刻机中国能造吗

但是2018年底中科院传来了好消息，中科院光电所研发成功了世界首台紫外超分辨率光刻机，该光刻机采用可通过多重曝光生产22nm芯片。特别值得一提的是，这台光刻机绕过了ASML等对国外光刻机高分辨率装备专利的技术壁垒，从光刻机原理上走出了一条具有自主知识产权的研发路线，为我国先进光刻机的发展打下了良好的技术基础。

虽然这台设备技术上前景很牛，通过多重曝光技术甚至可以生产10nm以下的芯片，要想真正用于芯片制造必须要流程再造，但是有志者事竟成，毕竟商业化之路是很漫长的。尽管如此，这台光刻机的研发成功对我国光刻机进步的意义是不言而喻的，可以说是开辟了有别于国外光刻机的技术路径，实现了中国真正自主创新。

总之，中国芯片产业快速发展，光刻机已成为芯片产业的一只拦路虎，如果我们只是一味地去模仿ASML的技术路径，肯定是不行的。只有下定决心，另辟蹊径，走出一条有别于ASML的技术途径，才有可能生产出真正有自主知识产权的国产光刻机，无疑，中科院光电所给我们做出了榜样，给中国的芯片之路指明了方向。
【euv光刻机中国能造吗光刻机中国能造吗】此文由“科技摆乾坤”发布，2020年02月06日