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俄罗斯宣布可以生产350纳米的第一台光刻机问世后 ， 俄工贸部紧接着称 ， 到2026年会收到国产的130纳米光刻机 。
全球首次可用的130纳米光刻机是在2001年投产的 ， 也就是说俄罗斯目前与世界的差距在25年左右 ， 不过据称俄罗斯下一代90纳米光刻机也正在开发之中 。
【突破！俄罗斯下一代光刻机两年后投产，可生产130纳米芯片】来源：塔斯社
据悉 ， 目前市面上占市场大头的是28纳米以上制程的芯片 ， 占60% ， 14纳米占10%左右 ， 而350纳米的芯片在汽车领域来说已经完全够用 。
俄罗斯两年后的130纳米芯片 ， 则属于宇航级芯片 ， 譬如航天发射的火箭就要求良率达到亿分之一以内 ， 且芯片更是要求安全可靠 ， 而130纳米的芯片目前来说是最合适的 。
芯片不是在任何行业都是越小越好 ， 对于俄罗斯来说 ， 就算能制造出3nm的光刻机 ， 其他产业链跟不上 ， 也造不出3nm的手机来 ， 从无到有是一个突破 ， 现解决能用在到好用需要一个过程 ， 不知道俄罗斯能在光刻机研制这条路上走多远 。
目前 ， 我国制造的光刻机已知的是90纳米 ， 通过多重曝光可以生产55纳米左右的芯片 ， 不过在主要技术积累方面 ， 已经达到了28纳米左右 ， 其中中微的蚀刻设备和屹唐半导体的去胶机已经到了5纳米 。
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