大势已定！国产光刻机迎里程碑式突破，外媒：彻底挡不住了
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前不久 ， 环球时报等多家媒体报道 ， 在老美频频施压之下 ， 荷兰ASML突然宣布 ， 针对部分DUV光刻机型号 ， 将停止对中国客户的设备检修等售后服务 。 这部分光刻机设备 ， 预计到明年就无法再正常运行了 。
此消息一出 ， 国内科技界瞬间炸锅了 。 要知道 ， 这些年国内已累计向ASML采购了约1400台光刻机 ， 而仅仅是2024年上半年 ， 也就是三方协议缓冲期内 ， 我们还有向ASML密集采购了约88台光刻机 ， 总价值高达350亿元！
在中国芯爬坡破冰的关键阶段 ， 这些外购来的光刻机是保证产能的基本因素 。 可美方却“釜底抽薪” ， 意欲把我们已购的光刻机变成“废铁” ， 彻底失去自主制造芯片的能力 。
但让美方和ASML做梦都没有想到的是 ， “反转”竟来得如此之快 ， 仅短短数十天 ， 大势已定！
最近这几天 ， 国内科技圈变得热闹非凡 ， 主要话题几乎都是围绕着“光刻机” 。 据悉 ， 工信部在9月上旬发布了一则名为《首台重大技术装备推广应用指导目录》的重要通知 。 两台由我们自主研发的光刻机设备 ， 此次正式亮相！
资料显示 ， 这两台国产光刻机分别是氟化氪光刻机（Krf） ， 波长248nm ， 分辨率≤110nm、套壳≤25nm；氟化氩光刻机（Arf） ， 波长193nm ， 分辨率≤65nm ， 套壳≤8nm ， 属于深紫外（DUV）范畴 。
【大势已定！国产光刻机迎里程碑式突破，外媒：彻底挡不住了】从2020年到现在的四年时间里 ， 我们曾听闻很多关于国产光刻机的消息 ， 如光源的突破等等 ， 但真正实现整机突破的 ， 这还是头一遭 。 由此足以看出这两台国产光刻机落地的重大意义！
需要强调的是 ， 针对氟化氩光刻机（Arf）小于8nm的套刻精度 ， 一些网友误认为它可以用于8nm芯片的制造 。 其实这样理解是错误的 ， 所谓套刻精度小于8nm ， 指的是前后两道光刻工序之间的图形对准精度达到了8nm以下 ， 即误差小于8nm 。
套壳误差与芯片的良率和性能息息相关 ， 而8nm误差的水平 ， 则能够用于20nm及其以上制程工艺芯片的制造 。 也就是说 ， 咱们的这台国产光刻机的主要应用范围是成熟芯片领域 。
当然 ， 通过多重曝光技术也并非不能实现14nm/7nm芯片的制造 ， 只不过 ， 良率和成本都会受到影响 ， 划不来 。
事实上 ， 早在两年前 ， 龙芯工程师胡伟武就曾说过 ， 我们不必盲目的学习美国去造5nm芯片 ， 就目前国内芯片市场的需求而言 ， 28nm够用了 ， 可满足超80%以上的产业领域 ， 如家电、汽车等行业 ， 所用到的基本都是成熟芯片 。
在美方与ASML计划停止对中国光刻机维修的关键时刻 ， 国产光刻机的突破可谓恰到好处！外界的封锁非但无法遏制中国芯崛起的步伐 ， 反而将会进一步加快我们实现芯片供应链国产化替代的步伐 。
从90nm的分辨率到65nm ， 欧美用了十数年 ， 而我们只用了四年 ， 且以后会越来越快 ， 这就是“中国速度”！就连不少外媒都纷纷表示 ， 彻底挡不住了！
当然 ， 我们不提倡盲目的吹捧或者唱衰 ， 不可否认 ， 现阶段国产光刻机的工艺与性能相比ASML还有很大的差距 ， 但我们理应给予足够的包容 ， 正所谓“不积跬步无以至千里” ， 所有尖端技术的研发都需要一步一个脚印 ， 因为只有先站稳低端、打实基础 ， 未来才能更好的冲击高端 。
保持耐心、拭目以待 ， 相信用不了多久 ， 中国芯就能再次震惊全世界！
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